一種提高大尺寸拋光片表面潔凈度的清洗工藝
基本信息
申請?zhí)?/td> | CN202210187085.3 | 申請日 | - |
公開(公告)號 | CN114639595A | 公開(公告)日 | 2022-06-17 |
申請公布號 | CN114639595A | 申請公布日 | 2022-06-17 |
分類號 | H01L21/02(2006.01)I;C11D7/08(2006.01)I;C11D7/04(2006.01)I;C11D7/18(2006.01)I | 分類 | 基本電氣元件; |
發(fā)明人 | 張宏杰;劉建偉;武衛(wèi);劉園;孫晨光;王彥君 | 申請(專利權(quán))人 | 天津中環(huán)領(lǐng)先材料技術(shù)有限公司 |
代理機構(gòu) | 天津諾德知識產(chǎn)權(quán)代理事務所(特殊普通合伙) | 代理人 | - |
地址 | 300384天津市濱海新區(qū)華苑產(chǎn)業(yè)區(qū)(環(huán)外)海泰東路12號 | ||
法律狀態(tài) | - |
摘要
摘要 | 本發(fā)明提供一種提高大尺寸拋光片表面潔凈度的清洗工藝,步驟包括:多次對硅片執(zhí)行酸洗和堿洗,其中,所有堿洗均在酸洗之間進行,且所有堿洗為連續(xù)設置。本發(fā)明一種提高大尺寸拋光片表面潔凈度的清洗工藝,通過重新設計清洗工藝,并重新調(diào)整酸洗及堿洗成份,以徹底將硅片表面的金屬離子清洗干凈,同時將硅片表面上的機械損傷及其它顆粒雜質(zhì)也一同去除,以保證硅片表面潔凈度可達到65nm顆粒增長量≤60顆,使臟片率降低了0.3%。 |
