一種提高大尺寸拋光片表面潔凈度的清洗工藝

基本信息

申請?zhí)?/td> CN202210187085.3 申請日 -
公開（公告）號 CN114639595A 公開（公告）日 2022-06-17
申請公布號 CN114639595A 申請公布日 2022-06-17
分類號 H01L21/02（2006.01）I;C11D7/08（2006.01）I;C11D7/04（2006.01）I;C11D7/18（2006.01）I 分類 基本電氣元件;
發(fā)明人 張宏杰;劉建偉;武衛(wèi);劉園;孫晨光;王彥君 申請（專利權(quán)）人 天津中環(huán)領(lǐng)先材料技術(shù)有限公司
代理機構(gòu) 天津諾德知識產(chǎn)權(quán)代理事務所（特殊普通合伙） 代理人 -
地址 300384天津市濱海新區(qū)華苑產(chǎn)業(yè)區(qū)（環(huán)外）海泰東路12號
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本發(fā)明提供一種提高大尺寸拋光片表面潔凈度的清洗工藝，步驟包括：多次對硅片執(zhí)行酸洗和堿洗，其中，所有堿洗均在酸洗之間進行，且所有堿洗為連續(xù)設置。本發(fā)明一種提高大尺寸拋光片表面潔凈度的清洗工藝，通過重新設計清洗工藝，并重新調(diào)整酸洗及堿洗成份，以徹底將硅片表面的金屬離子清洗干凈，同時將硅片表面上的機械損傷及其它顆粒雜質(zhì)也一同去除，以保證硅片表面潔凈度可達到65nm顆粒增長量≤60顆，使臟片率降低了0.3％。