紅外焦平面芯片及其制備方法、紅外焦平面探測器
基本信息
申請?zhí)?/td> | CN202111238177.1 | 申請日 | - |
公開(公告)號 | CN113690262B | 公開(公告)日 | 2022-03-22 |
申請公布號 | CN113690262B | 申請公布日 | 2022-03-22 |
分類號 | H01L27/146(2006.01)I;G01J5/20(2006.01)I | 分類 | 基本電氣元件; |
發(fā)明人 | 黃立;凡陳玲;汪良衡;劉文波;金迎春;操神送;丁顏顏;劉斌;周文洪 | 申請(專利權(quán))人 | 武漢高芯科技有限公司 |
代理機構(gòu) | 北京匯澤知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 | 代理人 | 徐俊偉 |
地址 | 430205湖北省武漢市東湖開發(fā)區(qū)黃龍山南路6號2號樓 | ||
法律狀態(tài) | - |
摘要
摘要 | 本發(fā)明提供了一種紅外焦平面芯片,包括襯底、紅外敏感層、于襯底上設(shè)置的讀出電路以及連接紅外敏感層的互連金屬,于紅外敏感層的n型區(qū)設(shè)抗反膜,紅外敏感層的p型區(qū)具有不透紅外光的金屬層,金屬層通過引線與公共電極地連接。還提供一種紅外焦平面探測器。還提供一種紅外焦平面芯片的制備方法。本發(fā)明可降低中心像素和邊緣像素Gpol工作點之間的電壓偏差,進而提高了探測器邊緣像素的成像質(zhì)量。另外采用p型區(qū)生長等電位的金屬,實現(xiàn)相同的等電位功效,避免了正面等電位加工工藝受限于平面結(jié)的局限性,和小像元芯片加工時等電位金屬和像元間短路而失效的風險,可實現(xiàn)光增強電信號,減小光串音的效果,避免擋光而降低探測器靈敏度。 |
