流體噴射單元、噴射裝置及其制造方法、以及噴射系統(tǒng)

基本信息

申請(qǐng)?zhí)?/td> CN201610272773.4 申請(qǐng)日 -
公開(kāi)（公告）號(hào) CN105772243B 公開(kāi)（公告）日 2020-03-03
申請(qǐng)公布號(hào) CN105772243B 申請(qǐng)公布日 2020-03-03
分類號(hào) B05B1/00;B01D53/76;B01D53/56 分類 一般噴射或霧化；對(duì)表面涂覆液體或其他流體的一般方法〔2〕;
發(fā)明人 羅璐 申請(qǐng)（專利權(quán)）人 北京清源中科環(huán)保科技有限公司
代理機(jī)構(gòu) 北京煦潤(rùn)律師事務(wù)所 代理人 北京清源中科環(huán)?？萍加邢薰?羅璐
地址 100036 北京市海淀區(qū)翠湖南環(huán)路13號(hào)院1號(hào)樓316室
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本發(fā)明公開(kāi)一種流體噴射單元，包括真空管、冷媒管、流體管和噴射結(jié)構(gòu)，所述流體管置于所述冷媒管內(nèi)部，所述冷媒管置于所述真空管內(nèi)部，所述噴射結(jié)構(gòu)與所述流體管連通，并且所述噴射結(jié)構(gòu)貫穿所述冷媒管和所述真空管的同時(shí)，分別與所述冷媒管和所述真空管密封連接。本發(fā)明還公開(kāi)一種流體噴射裝置，由若干個(gè)所述流體噴射單元順次對(duì)接并密封，使其真空管對(duì)接后形成真空通道，使其冷媒管對(duì)接后形成冷媒通道，使其流體管對(duì)接后形成流體通道。本發(fā)明所述的流體噴射裝置，實(shí)現(xiàn)了真空環(huán)境下進(jìn)行冷媒傳導(dǎo)和流體噴射的完美結(jié)合，使流體噴射和冷媒傳導(dǎo)都在真空環(huán)境下進(jìn)行。本發(fā)明同時(shí)公開(kāi)了一種流體噴射裝置的制造方法。