鉬鈮合金靶材及其制備方法、黑化膜

基本信息

申請(qǐng)?zhí)?/td> CN201911190147.0 申請(qǐng)日 -
公開(kāi)（公告）號(hào) CN111058003B 公開(kāi)（公告）日 2021-10-08
申請(qǐng)公布號(hào) CN111058003B 申請(qǐng)公布日 2021-10-08
分類號(hào) C23C14/34;C22C27/04;C22C32/00;B22F1/00;B22F9/04;B22F3/04;B22F3/15;C23C14/14 分類 對(duì)金屬材料的鍍覆；用金屬材料對(duì)材料的鍍覆；表面化學(xué)處理；金屬材料的擴(kuò)散處理；真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學(xué)氣相沉積法的一般鍍覆；金屬材料腐蝕或積垢的一般抑制〔2〕;
發(fā)明人 程銀兵;周鈞;莊猛;莊志杰 申請(qǐng)（專利權(quán)）人 基邁克材料科技（蘇州）有限公司
代理機(jī)構(gòu) 廣州華進(jìn)聯(lián)合專利商標(biāo)代理有限公司 代理人 杜帥
地址 215200 江蘇省蘇州市吳江區(qū)汾湖經(jīng)濟(jì)開(kāi)發(fā)區(qū)汾楊路東側(cè)
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本發(fā)明涉及一種鉬鈮合金靶材及其制備方法、黑化膜。其中，鉬鈮合金靶材包括如下質(zhì)量份的原料組分：鉬45?89.1份、鈮5?9.9份以及金屬氧化物1?50份；其中，所述金屬氧化物選自氧化鋁和氧化鋅中的至少一種。上述鉬鈮合金靶材的原料組分配比合理，在傳統(tǒng)的鉬鈮合金靶材的基礎(chǔ)上，添加至少一種上述金屬氧化物，經(jīng)實(shí)驗(yàn)驗(yàn)證，經(jīng)上述鉬鈮合金靶材最終制得的黑化膜可以減少或消除電子產(chǎn)品表面的反射光，增加透光量，減少雜散光吸收。