電致變色膜系的制備方法及電致變色器件的制備方法
基本信息
申請?zhí)?/td> | CN202010896429.9 | 申請日 | - |
公開(公告)號 | CN112210754A | 公開(公告)日 | 2021-01-12 |
申請公布號 | CN112210754A | 申請公布日 | 2021-01-12 |
分類號 | C23C14/08;C23C14/18;C23C14/06;C23C14/35;C23C14/34;G02F1/153;G02F1/155 | 分類 | 對金屬材料的鍍覆;用金屬材料對材料的鍍覆;表面化學(xué)處理;金屬材料的擴散處理;真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學(xué)氣相沉積法的一般鍍覆;金屬材料腐蝕或積垢的一般抑制〔2〕; |
發(fā)明人 | 周鈞;程銀兵;莊志杰 | 申請(專利權(quán))人 | 基邁克材料科技(蘇州)有限公司 |
代理機構(gòu) | 廣州華進(jìn)聯(lián)合專利商標(biāo)代理有限公司 | 代理人 | 基邁克材料科技(蘇州)有限公司 |
地址 | 215200 江蘇省蘇州市吳江區(qū)汾湖經(jīng)濟開發(fā)區(qū)汾楊路東側(cè) | ||
法律狀態(tài) | - |
摘要
摘要 | 本發(fā)明涉及一種電致變色膜系的制備方法及電致變色器件的制備方法。電致變色膜系的制備方法包括如下步驟:采用氣相沉積技術(shù)在第一透明保護(hù)層上形成第一導(dǎo)電薄膜層,第一導(dǎo)電薄膜層的材質(zhì)為金屬氧化物;采用氣相沉積技術(shù)在第一導(dǎo)電薄膜層上形成離子儲存層,離子儲存層的材質(zhì)為鋰合金或者鋰金屬氧化物;采用氣相沉積技術(shù)在離子儲存層上形成離子傳導(dǎo)輸送層,離子傳導(dǎo)輸送層的材質(zhì)為含鋰的聚陰離子化合物;采用氣相沉積技術(shù)在離子傳導(dǎo)輸送層上形成離子變色層,離子變色層的材質(zhì)為金屬氧化物;采用氣相沉積技術(shù)在離子變色層上形成第二導(dǎo)電薄膜層,第二導(dǎo)電薄膜層的材質(zhì)為金屬氧化物;以及采用氣相沉積技術(shù)在第二導(dǎo)電薄膜層上形成第二透明保護(hù)層。 |
