一種用于ICP-MS的閥門裝置及真空系統(tǒng)
基本信息
申請?zhí)?/td> | CN202210238351.0 | 申請日 | - |
公開(公告)號 | CN114623277A | 公開(公告)日 | 2022-06-14 |
申請公布號 | CN114623277A | 申請公布日 | 2022-06-14 |
分類號 | F16K31/04(2006.01)I;F16K31/50(2006.01)I;F16K3/02(2006.01)I;F16K3/316(2006.01)I;F16K3/314(2006.01)I;F16K37/00(2006.01)I;G01N27/626(2021.01)I;H01J49/04(2006.01)I;H01J49/24(2006.01)I | 分類 | 工程元件或部件;為產(chǎn)生和保持機器或設備的有效運行的一般措施;一般絕熱; |
發(fā)明人 | 許夢祥;王冕;梁炎;郭茂坤 | 申請(專利權)人 | 瑞萊譜(杭州)醫(yī)療科技有限公司 |
代理機構 | 杭州易中元兆專利代理有限公司 | 代理人 | - |
地址 | 310052浙江省杭州市濱江區(qū)建業(yè)路511號華創(chuàng)大廈17層1701室 | ||
法律狀態(tài) | - |
摘要
摘要 | 本發(fā)明公開了一種用于ICP?MS的閥門裝置,閥門裝置設于ICP?MS儀第一級真空室與第二級真空室之間,所述閥門裝置包括閥座,閥座內設有絲桿,絲桿一端連接密封板,絲桿另一端連接驅動電機,閥座還連接導向裝置,所述密封板置于導向裝置內滑動構成第一級真空室與第二級真空室之間的聯(lián)通或分隔。本發(fā)明還公開了設有上述閥門裝置的真空系統(tǒng)。本發(fā)明控制電機輸出信號,實現(xiàn)對閥門位移速度、位移距離的精準控制,相比氣缸動作的精度更高,使真空系統(tǒng)更可靠,提升了儀器的使用壽命與穩(wěn)定性。 |
