一種物理氣相沉積鍍膜設(shè)備的基片架
基本信息
申請?zhí)?/td> | CN201920559046.5 | 申請日 | - |
公開(公告)號 | CN210367893U | 公開(公告)日 | 2020-04-21 |
申請公布號 | CN210367893U | 申請公布日 | 2020-04-21 |
分類號 | C23C14/50 | 分類 | 對金屬材料的鍍覆;用金屬材料對材料的鍍覆;表面化學(xué)處理;金屬材料的擴(kuò)散處理;真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學(xué)氣相沉積法的一般鍍覆;金屬材料腐蝕或積垢的一般抑制〔2〕; |
發(fā)明人 | 王建 | 申請(專利權(quán))人 | 國民薄膜太陽能科技(淄博)有限公司 |
代理機構(gòu) | 北京志霖恒遠(yuǎn)知識產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所(普通合伙) | 代理人 | 郭棟梁 |
地址 | 255086 山東省淄博市高新區(qū)民祥路1999號 | ||
法律狀態(tài) | - |
摘要
摘要 | 本實用新型公開了一種物理氣相沉積鍍膜設(shè)備的基片架,涉及真空鍍膜設(shè)備技術(shù)領(lǐng)域,所述基片架包括基片架本體和頂針機構(gòu),基片架本體呈豎直設(shè)置的方形框架結(jié)構(gòu),所述基片架本體的兩側(cè)均裝設(shè)有至少一個夾具組件,用于固定玻璃板,所述夾具組件上開設(shè)有功能孔;頂針機構(gòu)位于所述基片架本體的一側(cè),與所述夾具組件一一對應(yīng)設(shè)置,所述頂針機構(gòu)的輸出端與所述功能孔對應(yīng)設(shè)置,用于控制所述夾具組件對所述玻璃板的固定。本實用新型的基片架通過頂針機構(gòu)插入到功能孔內(nèi)并在功能孔內(nèi)的撥動實現(xiàn)對夾具組件的固定與松開的操作,準(zhǔn)確率高,磨損小,可以精準(zhǔn)穩(wěn)定的控制夾具組件,保證基片架上下玻璃片的穩(wěn)定性和準(zhǔn)確性。 |
