光學(xué)圖像采集單元、光學(xué)圖像采集器件及電子設(shè)備
基本信息
| 申請(qǐng)?zhí)?/td> | CN202022646290.0 | 申請(qǐng)日 | - |
| 公開(kāi)（公告）號(hào) | CN213365537U | 公開(kāi)（公告）日 | 2021-06-04 |
| 申請(qǐng)公布號(hào) | CN213365537U | 申請(qǐng)公布日 | 2021-06-04 |
| 分類(lèi)號(hào) | G06K9/00;G06K9/20 | 分類(lèi) | 計(jì)算；推算；計(jì)數(shù); |
| 發(fā)明人 | 朱昊樞;邵仁錦;左志成;葉瑞;劉朋;浦東林;陳林森;朱志堅(jiān) | 申請(qǐng)（專(zhuān)利權(quán)）人 | 蘇州邁塔光電科技有限公司 |
| 代理機(jī)構(gòu) | 蘇州謹(jǐn)和知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所（特殊普通合伙） | 代理人 | 唐靜芳 |
| 地址 | 215123 江蘇省蘇州市工業(yè)園區(qū)新昌路68號(hào) | ||
| 法律狀態(tài) | - | ||
摘要
| 摘要 | 本實(shí)用新型涉及一種光學(xué)圖像采集單元、光學(xué)圖像采集器件及電子設(shè)備。該光學(xué)圖像采集單元，包括具有上表面和下表面的基材、形成在所述上表面上的上層遮光區(qū)和形成在所述下表面上的下層遮光區(qū)，所述上層遮光區(qū)上貫通形成有若干上開(kāi)口，所述上表面上形成有微透鏡陣列，所述微透鏡陣列包括若干微透鏡部，所述微透鏡部穿過(guò)所述上開(kāi)口以暴露在上層遮光區(qū)外，所述下層遮光區(qū)上貫通形成有若干下開(kāi)口，所述微透鏡部的正投影覆蓋所述下開(kāi)口。光學(xué)圖像采集單元整體厚度更小，結(jié)構(gòu)相對(duì)簡(jiǎn)單，且可減小散光的干擾及提高圖像采集精度。 |
