一種倒裝真空晶圓貼膜裝置
基本信息
申請?zhí)?/td> | CN202110235041.9 | 申請日 | - |
公開(公告)號 | CN112786497A | 公開(公告)日 | 2021-05-11 |
申請公布號 | CN112786497A | 申請公布日 | 2021-05-11 |
分類號 | H01L21/67 | 分類 | 基本電氣元件; |
發(fā)明人 | 沈凱 | 申請(專利權)人 | 芯鈦科半導體設備(上海)有限公司 |
代理機構 | 上??剖⒅R產(chǎn)權代理有限公司 | 代理人 | 丁云 |
地址 | 200070 上海市靜安區(qū)共和新路912號1102-1室 | ||
法律狀態(tài) | - |
摘要
摘要 | 本發(fā)明涉及一種倒裝真空晶圓貼膜裝置,該裝置包括上真空腔(1)和下真空腔(2),所述的上真空腔(1)和下真空腔(2)分別獨立與吸真空設備連接,所述的上真空腔(1)中設有吸附晶圓(3)電路板面的吸附結構,用于貼膜的薄膜通過張緊結構張緊,所述的下真空腔(2)中設有支撐結構,所述的張緊結構固定在支撐結構上,所述的下真空腔(2)中支撐臺下方設有用于驅動支撐結構上下運動的驅動結構,張緊結構安裝到位后,張緊結構上的薄膜下表面與下真空腔(2)的腔體連通,同時支撐結構和張緊結構將上真空腔(1)和下真空腔(2)隔離。與現(xiàn)有技術相比,本發(fā)明具有避免晶圓二次翻轉180°的風險、貼膜無氣泡等優(yōu)點。 |
