微機電系統(tǒng)裝置的制造方法、微機電系統(tǒng)裝置和電子設(shè)備
基本信息
申請?zhí)?/td> | CN202111315844.1 | 申請日 | - |
公開(公告)號 | CN114148987A | 公開(公告)日 | 2022-03-08 |
申請公布號 | CN114148987A | 申請公布日 | 2022-03-08 |
分類號 | B81C1/00(2006.01)I;B81B7/00(2006.01)I;B81B7/02(2006.01)I | 分類 | 微觀結(jié)構(gòu)技術(shù)〔7〕; |
發(fā)明人 | 鄒泉波;丁凱文;冷群文;周良;張賀存;李剛;周汪洋 | 申請(專利權(quán))人 | 歌爾微電子股份有限公司 |
代理機構(gòu) | 北京博雅睿泉專利代理事務(wù)所(特殊普通合伙) | 代理人 | 馬鐵良 |
地址 | 266101山東省青島市嶗山區(qū)科苑緯一路1號青島國際創(chuàng)新園二期F樓 | ||
法律狀態(tài) | - |
摘要
摘要 | 公開了一種微機電系統(tǒng)裝置的制造方法、微機電系統(tǒng)裝置和電子設(shè)備。微機電系統(tǒng)裝置包括薄膜型的微機電系統(tǒng)器件層,以及該制造方法包括:在微機電系統(tǒng)襯底上形成犧牲層;在犧牲層上形成微機電系統(tǒng)器件層;經(jīng)由臨時鍵合層將載體層臨時鍵合在微機電系統(tǒng)器件層上,其中,載體層是透明的并且是剛性的;通過對犧牲層進(jìn)行處理以釋放微機電系統(tǒng)器件層;通過曝光從所釋放的微機電系統(tǒng)器件層上對載體層進(jìn)行解鍵合;以及去除臨時鍵合層。 |
