微發(fā)光二極管、微發(fā)光元件及顯示器
基本信息
申請?zhí)?/td> | CN202110506934.2 | 申請日 | - |
公開(公告)號 | CN113328022A | 公開(公告)日 | 2021-08-31 |
申請公布號 | CN113328022A | 申請公布日 | 2021-08-31 |
分類號 | H01L33/22(2010.01)I;H01L33/46(2010.01)I;G09F9/33(2006.01)I | 分類 | 基本電氣元件; |
發(fā)明人 | 吳政;李佳恩 | 申請(專利權(quán))人 | 廈門三安光電有限公司 |
代理機(jī)構(gòu) | 北京漢之知識產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所(普通合伙) | 代理人 | 王立紅 |
地址 | 361100福建省廈門市同安區(qū)洪塘鎮(zhèn)民安大道841-899號 | ||
法律狀態(tài) | - |
摘要
摘要 | 本申請公開了一種微發(fā)光二極管、微發(fā)光元件及顯示器,該微發(fā)光二極管包括半導(dǎo)體堆疊層,半導(dǎo)體堆疊層具有相對設(shè)置的第一表面和第二表面;第一表面包括粗糙部和平臺部,平臺部環(huán)繞于粗糙部的外圍,且粗糙部相對于平臺部向第二表面方向凹陷。本申請中平臺部主要是利用保護(hù)層預(yù)先覆蓋第一表面的部分區(qū)域并在對第一表面粗化過程中避免保護(hù)層所覆蓋的區(qū)域被移除或減薄而成,在形成平臺部時,若半導(dǎo)體堆疊層側(cè)壁有絕緣層,則能夠避免半導(dǎo)體堆疊層側(cè)壁處的絕緣層暴露在蝕刻流體下,從而避免絕緣層受到損傷而導(dǎo)致絕緣層失效,提高微發(fā)光二極管的可靠性及出光效率。 |
