一種脫細胞真皮基質(zhì)的輻照保護方法

基本信息

申請?zhí)?/td> CN202010310864.9 申請日 -
公開（公告）號 CN111481684A 公開（公告）日 2020-08-04
申請公布號 CN111481684A 申請公布日 2020-08-04
分類號 A61L2/08;A61L27/36 分類 -
發(fā)明人 蔣彩云;李志宏;柏瑋;郭雅楠 申請（專利權(quán)）人 百澳瑞派（天津）生物科技有限公司
代理機構(gòu) 天津盛理知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 代理人 百澳瑞派（天津）生物科技有限公司
地址 301714 天津市武清區(qū)河西務(wù)鎮(zhèn)商業(yè)區(qū)10號212室-18（集中辦公區(qū)）
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本發(fā)明涉及一種脫細胞真皮基質(zhì)的輻照保護方法，該方法步驟包括：將脫細胞真皮基質(zhì)置于含輻照保護劑的PBS緩沖液中于2?8℃超低壓滲透法浸泡20?120min；然后將真皮基質(zhì)取出后轉(zhuǎn)入新的含輻照保護劑的PBS緩沖液中，真空封口包裝，濕態(tài)保存；最后進行低溫輻照滅菌，輻照劑量為10?25KGy，輻照保護劑為兒茶素、丹酚酸B、金屬硫蛋白、甘露醇、阿魏酸、山竹醇中的一種或任意兩種組合。本發(fā)明提供一種在輻照過程中能有效保護脫細胞真皮基質(zhì)組織結(jié)構(gòu)，確保其使用性能的脫細胞真皮基質(zhì)的輻照保護方法，有效解決真皮基質(zhì)收縮溫度降低、熱穩(wěn)定性變差以及斷裂伸長率降低的技術(shù)問題。