一種具有獨立冷卻水系統(tǒng)的磁場可移動靶座
基本信息
申請?zhí)?/td> | CN201420237880.X | 申請日 | - |
公開(公告)號 | CN203820882U | 公開(公告)日 | 2014-09-10 |
申請公布號 | CN203820882U | 申請公布日 | 2014-09-10 |
分類號 | C23C14/35(2006.01)I | 分類 | 對金屬材料的鍍覆;用金屬材料對材料的鍍覆;表面化學(xué)處理;金屬材料的擴散處理;真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學(xué)氣相沉積法的一般鍍覆;金屬材料腐蝕或積垢的一般抑制〔2〕; |
發(fā)明人 | 趙宏清;劉曉文 | 申請(專利權(quán))人 | 嘉程永豐科技(北京)有限公司 |
代理機構(gòu) | 濟南泉城專利商標(biāo)事務(wù)所 | 代理人 | 李桂存 |
地址 | 251200 山東省德州市禹城市高新區(qū)振興大道漢能光伏產(chǎn)業(yè)園 | ||
法律狀態(tài) | - |
摘要
摘要 | 本實用新型涉及一種具有獨立冷卻水系統(tǒng)的磁場可移動靶座。本一種具有獨立冷卻水系統(tǒng)的磁場可移動靶座,包括靶基板、磁鋼組件、靶材和對磁鋼組件起到調(diào)節(jié)移動作用的微調(diào)裝置,該微調(diào)裝置通過連接座與磁鋼組件相連,磁鋼組件外圍設(shè)有U型冷卻基座,U型冷卻基座內(nèi)嵌入U型冷卻水管,U型冷卻基座底部安裝靶材;微調(diào)裝置包括定位左檔、可滑動中檔、定位右檔,三檔中間間隔以靶座磁場暗區(qū)為基礎(chǔ),可滑動中檔通過螺母連接微調(diào)絲桿,微調(diào)絲桿左、右端部均通過支撐軸承固定于定位左、右檔上,微調(diào)絲桿端部邊緣設(shè)有旋轉(zhuǎn)手柄,可滑動中檔通過連接座與磁鋼組件相連。本實用新型使靶材消耗從V型結(jié)構(gòu)變成U型結(jié)構(gòu),方便快捷的提高靶材利用率。 |
