一種LPCVD工藝腔加熱系統(tǒng)

基本信息

申請?zhí)?/td> CN201110372325.9 申請日 -
公開（公告）號 CN102400111B 公開（公告）日 2016-06-15
申請公布號 CN102400111B 申請公布日 2016-06-15
分類號 C23C16/46(2006.01)I 分類 對金屬材料的鍍覆；用金屬材料對材料的鍍覆；表面化學處理；金屬材料的擴散處理；真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學氣相沉積法的一般鍍覆；金屬材料腐蝕或積垢的一般抑制〔2〕;
發(fā)明人 喬志強 申請（專利權）人 嘉程永豐科技（北京）有限公司
代理機構 - 代理人 -
地址 100107 北京市朝陽區(qū)安立路0-A號
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本發(fā)明公開了一種LPCVD工藝腔加熱系統(tǒng)，具體地講是一種適用于薄膜電池對TCO超白浮法平板玻璃加熱的LPCVD工藝腔加熱系統(tǒng)。其包括控制系統(tǒng)、加熱部件、被加熱體三部分；其中，被加熱體為加熱板；加熱部件包括四根加熱絲，加熱絲嵌入到加熱板中；控制系統(tǒng)包括四個溫控器和四個固態(tài)繼電器，四個溫控器分別對應四根加熱絲，每個溫控器與對應的固態(tài)繼電器通過兩根控制線連接，固態(tài)繼電器的輸出端與加熱絲連接。本發(fā)明具有加熱板溫度易控、加熱溫度精度高、加熱均勻、鍍膜均勻、成品率高的特點。