一種抗PID 效應(yīng)的太陽能電池片
基本信息
申請?zhí)?/td> | CN201420200809.4 | 申請日 | - |
公開(公告)號 | CN203895468U | 公開(公告)日 | 2014-10-22 |
申請公布號 | CN203895468U | 申請公布日 | 2014-10-22 |
分類號 | H01L31/0216(2014.01)I;H01L31/042(2014.01)I | 分類 | 基本電氣元件; |
發(fā)明人 | 張鳳;金建安 | 申請(專利權(quán))人 | 協(xié)鑫硅材料科技(太倉)有限公司 |
代理機構(gòu) | 廣州華進聯(lián)合專利商標(biāo)代理有限公司 | 代理人 | 付濤 |
地址 | 215028 江蘇省蘇州市工業(yè)園區(qū)圓融時代廣場國際金融中心19樓 | ||
法律狀態(tài) | - |
摘要
摘要 | 本實用新型屬于光伏太陽能電池的制造技術(shù),涉及一種抗電勢誘導(dǎo)衰減效應(yīng)的太陽能電池片。其電池片包括有晶體硅襯底、絨面、擴散發(fā)射結(jié)以及依次沉積在晶體硅襯底上的三層鈍化減反射膜,第一層為SiNx,折射率為2.2-2.4,厚度為5-10nm,第二層SiNx的折射率為1.9-2.1,厚度為50-80nm,第三層為氧化鋁,折射率為1.8-1.9,厚度為2-10nm。本實用新型抗電勢誘導(dǎo)效應(yīng)效果好,并能夠在傳統(tǒng)氮化硅鍍膜設(shè)備基礎(chǔ)上進行生產(chǎn),成本低。 |
