一種新型鍍膜設(shè)備

基本信息

申請(qǐng)?zhí)?/td> CN202220708092.9 申請(qǐng)日 -
公開（公告）號(hào) CN216972712U 公開（公告）日 2022-07-15
申請(qǐng)公布號(hào) CN216972712U 申請(qǐng)公布日 2022-07-15
分類號(hào) C25D7/06（2006.01）I;C25D3/38（2006.01）I;C25D5/06（2006.01）I;C25D17/00（2006.01）I;C25D17/10（2006.01）I 分類 電解或電泳工藝；其所用設(shè)備〔4〕;
發(fā)明人 王天兵;賈斌;李學(xué)法;張國平 申請(qǐng)（專利權(quán)）人 江陰納力新材料科技有限公司
代理機(jī)構(gòu) 蘇州匯誠匯智專利代理事務(wù)所（普通合伙） 代理人 -
地址 214446江蘇省無錫市江陰市璜土鎮(zhèn)石莊華濱路26號(hào)
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本實(shí)用新型公開了一種新型鍍膜設(shè)備，包括電源裝置、鍍槽裝置和鍍輥裝置，鍍槽裝置包括用于盛裝鍍液的電鍍膜主槽，鍍輥裝置包括陽極部、陰極部和設(shè)置在陰極部?jī)蓚?cè)的兩個(gè)截液部，本實(shí)用新型的一種新型鍍膜設(shè)備，陰極部位于鍍液上方，陰極部的兩側(cè)還設(shè)置截液部，有效避免了陰極部被鍍銅。能獲得結(jié)晶細(xì)致連續(xù)的鍍銅層，進(jìn)而使磁控或蒸鍍銅膜上電鍍鍍銅層的速度大大提高，縮短施鍍時(shí)間。成功的解決了半成品薄膜被刺孔、燒孔、斷膜、半成品薄膜膜面方阻降低比率不夠高的問題，成品膜上方阻符合工藝要求，鍍銅銅層間結(jié)合力符合工藝要求。