圖像處理方法、裝置、系統(tǒng)、設(shè)備及計(jì)算機(jī)存儲(chǔ)介質(zhì)
基本信息
申請(qǐng)?zhí)?/td> | CN202010820296.7 | 申請(qǐng)日 | - |
公開(kāi)(公告)號(hào) | CN112070657A | 公開(kāi)(公告)日 | 2020-12-11 |
申請(qǐng)公布號(hào) | CN112070657A | 申請(qǐng)公布日 | 2020-12-11 |
分類號(hào) | G06T3/00(2006.01)I;G06T3/40(2006.01)I | 分類 | 計(jì)算;推算;計(jì)數(shù); |
發(fā)明人 | 季淵;高欽;陳文棟;穆廷洲 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人 | 昀光微電子(上海)有限公司 |
代理機(jī)構(gòu) | 北京東方億思知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限責(zé)任公司 | 代理人 | 趙秀芹 |
地址 | 200120上海市浦東新區(qū)民冬路239號(hào)3幢1層 | ||
法律狀態(tài) | - |
摘要
摘要 | 本申請(qǐng)實(shí)施例提供了圖像處理方法、裝置、系統(tǒng)、設(shè)備及計(jì)算機(jī)存儲(chǔ)介質(zhì)。該方法包括:獲取原始圖像;對(duì)原始圖像進(jìn)行n個(gè)預(yù)設(shè)尺度的下采樣處理,得到n張第一圖像;對(duì)每張第一待處理圖像進(jìn)行多個(gè)預(yù)設(shè)卷積核參數(shù)的高斯濾波處理,得到多張第二圖像;放大每張第二待處理圖像;對(duì)各張第三待處理圖像執(zhí)行:確定第三待處理圖像的卷積核參數(shù);確定第三待處理圖像的卷積核參數(shù)對(duì)應(yīng)的目標(biāo)像素距離;以基準(zhǔn)像素點(diǎn)為中心,基于目標(biāo)像素距離確定第三待處理圖像的第一區(qū)域;對(duì)各個(gè)第一區(qū)域進(jìn)行拼接融合,得到目標(biāo)圖像。根據(jù)本申請(qǐng)實(shí)施例提供的圖像處理方法、裝置、系統(tǒng)、設(shè)備及計(jì)算機(jī)存儲(chǔ)介質(zhì),能夠在保證人眼視覺(jué)感受的前提下降低圖像數(shù)據(jù)量的大小。?? |
