多元合金復(fù)合薄膜制備設(shè)備和制備方法
基本信息
| 申請(qǐng)?zhí)?/td> | CN201710305293.8 | 申請(qǐng)日 | - |
| 公開（公告）號(hào) | CN107130213A | 公開（公告）日 | 2017-09-05 |
| 申請(qǐng)公布號(hào) | CN107130213A | 申請(qǐng)公布日 | 2017-09-05 |
| 分類號(hào) | C23C14/26(2006.01)I;C23C14/32(2006.01)I;C23C14/35(2006.01)I;C23C14/06(2006.01)I;C23C14/18(2006.01)I;C23C28/00(2006.01)I | 分類 | 對(duì)金屬材料的鍍覆；用金屬材料對(duì)材料的鍍覆；表面化學(xué)處理；金屬材料的擴(kuò)散處理；真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學(xué)氣相沉積法的一般鍍覆；金屬材料腐蝕或積垢的一般抑制〔2〕; |
| 發(fā)明人 | 趙海波;梁紅櫻;董騏;杜建;鮮廣;但秦 | 申請(qǐng)（專利權(quán)）人 | 成都真銳科技涂層技術(shù)有限公司 |
| 代理機(jī)構(gòu) | 成都虹橋?qū)＠聞?wù)所（普通合伙） | 代理人 | 成都真銳科技涂層技術(shù)有限公司;四川大學(xué) |
| 地址 | 610052 四川省成都市成華區(qū)東三環(huán)路二段龍?zhí)豆I(yè)園成都真銳科技涂層技術(shù)有限公司 | ||
| 法律狀態(tài) | - | ||
摘要
| 摘要 | 本發(fā)明公開一種多元合金復(fù)合薄膜制備設(shè)備和制備方法，尤其是一種涉及納米涂層技術(shù)領(lǐng)域的多元合金復(fù)合薄膜制備設(shè)備和制備方法。本發(fā)明提供一種可顯著提高所鍍膜的切削刀具綜合性能的多元合金復(fù)合薄膜制備設(shè)備，包括加熱系統(tǒng)、供氣系統(tǒng)、冷卻系統(tǒng)、真空系統(tǒng)、真空室、載物架、升降機(jī)構(gòu)、坩堝蒸發(fā)源、磁控濺射源、陰極電弧源和電氣控制系統(tǒng)。本申請(qǐng)的設(shè)備可以實(shí)現(xiàn)陰極電弧離子鍍與磁控濺射的組合工藝，及真空蒸發(fā)鍍與磁控濺射相結(jié)合的二元蒸發(fā)源工藝，進(jìn)行多元合金復(fù)合薄膜的制備，準(zhǔn)確控制各類薄膜的組織結(jié)構(gòu)，從而得到高的硬度、低的內(nèi)應(yīng)力、高的結(jié)合力、低的粗糙度、良好的耐磨性等綜合性優(yōu)異的多元薄膜，且在制備過程中具有高的沉積速率。 |
