工模具表面復(fù)合氮化物涂層制備工藝

基本信息

申請(qǐng)?zhí)?/td> CN201710305268.X 申請(qǐng)日 -
公開(kāi)（公告）號(hào) CN106967977A 公開(kāi)（公告）日 2017-07-21
申請(qǐng)公布號(hào) CN106967977A 申請(qǐng)公布日 2017-07-21
分類(lèi)號(hào) C23C28/00;C23C14/14;C23C14/06;C23C14/35 分類(lèi) 對(duì)金屬材料的鍍覆；用金屬材料對(duì)材料的鍍覆；表面化學(xué)處理；金屬材料的擴(kuò)散處理；真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學(xué)氣相沉積法的一般鍍覆；金屬材料腐蝕或積垢的一般抑制〔2〕;
發(fā)明人 趙海波;劉亞;鮮廣;梁紅櫻;但秦 申請(qǐng)（專(zhuān)利權(quán)）人 成都真銳科技涂層技術(shù)有限公司
代理機(jī)構(gòu) 成都虹橋?qū)＠聞?wù)所（普通合伙） 代理人 成都真銳科技涂層技術(shù)有限公司;成都天科精密制造有限責(zé)任公司;四川大學(xué)
地址 610052 四川省成都市成華區(qū)東三環(huán)路二段龍?zhí)豆I(yè)園成都真銳科技涂層技術(shù)有限公司
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本發(fā)明公開(kāi)了一種工模具表面復(fù)合氮化物涂層制備工藝，屬于微納米涂層技術(shù)領(lǐng)域，該工藝是在鍍膜時(shí)，采用了真空離子蒸發(fā)鍍與磁控濺射離子鍍相結(jié)合的二元蒸發(fā)源技術(shù)；在N2與Ar的混合氣氛下，通過(guò)電子束蒸發(fā)源蒸發(fā)Ti元素，形成傳統(tǒng)的TiN薄膜，在沉積形成TiN膜的同時(shí)，通過(guò)磁控濺射源植入Me元素，在工模具表面鍍制(Ti，Me)N層；所述Me為T(mén)i、Al、Cr、Si中的至少一種。本發(fā)明工藝能夠提高工模具的綜合性能。