一種大尺寸、多元Ag基合金濺射靶材的制備方法

基本信息

申請?zhí)?/td> CN202111343240.8 申請日 -
公開（公告）號 CN114395749A 公開（公告）日 2022-04-26
申請公布號 CN114395749A 申請公布日 2022-04-26
分類號 C23C14/34（2006.01）I;C23C14/14（2006.01）I;C23C14/58（2006.01）I 分類 對金屬材料的鍍覆；用金屬材料對材料的鍍覆；表面化學(xué)處理；金屬材料的擴(kuò)散處理；真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學(xué)氣相沉積法的一般鍍覆；金屬材料腐蝕或積垢的一般抑制〔2〕;
發(fā)明人 寧來元;郭雅俊;張雪鳳;方宏;李帥方 申請（專利權(quán)）人 豐聯(lián)科光電（洛陽）股份有限公司
代理機(jī)構(gòu) 廣東眾達(dá)律師事務(wù)所 代理人 張雪華
地址 471000河南省洛陽市自由貿(mào)易試驗(yàn)區(qū)洛陽片區(qū)高新河洛路269號
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本發(fā)明涉及AMOLED高性能金屬靶材制備領(lǐng)域，具體涉及一種大尺寸、多元Ag基合金濺射靶材及制備方法；生產(chǎn)的銀合金濺射靶材尺寸滿足G4.5?G6 AMOLED產(chǎn)線生產(chǎn)所需的大尺寸一體寬幅靶材；并且通過調(diào)節(jié)合適的多元組分，改善AMOLED制程中出現(xiàn)的純Ag膜層的擴(kuò)散和腐蝕不良；一方面可以避免Ag合金大氣熔煉時(shí)的嚴(yán)重吸氧，另一方面真空環(huán)境下通入一定壓力的惰性氣體保護(hù)可以避免Ag及其合金元素的揮發(fā)損失，可以更加容易和精準(zhǔn)的控制合金比例；為了提高合金元素的均勻本發(fā)明采取獨(dú)特的二次熔煉的工藝，首次熔煉在達(dá)到澆鑄溫度之上有利于電磁攪拌作用的充分發(fā)揮，二次熔煉溫度在澆鑄溫度保溫增加合金元素的混合和擴(kuò)散，從而達(dá)到合金元素均勻的合金靶。