釹鐵硼磁體電鍍銅鎳工藝
基本信息
申請?zhí)?/td> | CN202010852523.4 | 申請日 | - |
公開(公告)號 | CN112899684A | 公開(公告)日 | 2021-06-04 |
申請公布號 | CN112899684A | 申請公布日 | 2021-06-04 |
分類號 | C23C28/02;C25D5/12;C25D3/38;C25D3/12;C23C18/36;C25D5/34 | 分類 | 對金屬材料的鍍覆;用金屬材料對材料的鍍覆;表面化學(xué)處理;金屬材料的擴(kuò)散處理;真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學(xué)氣相沉積法的一般鍍覆;金屬材料腐蝕或積垢的一般抑制〔2〕; |
發(fā)明人 | 韓繼虎;高政;李國彬 | 申請(專利權(quán))人 | 天津京磁電子元件制造有限公司 |
代理機(jī)構(gòu) | 北京遠(yuǎn)大卓悅知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 | 代理人 | 史霞 |
地址 | 301914 天津市薊州區(qū)天津?qū)S闷嚠a(chǎn)業(yè)園瀾河街8號 | ||
法律狀態(tài) | - |
摘要
摘要 | 本發(fā)明公開了釹鐵硼磁體電鍍銅鎳工藝,其包括:步驟一、對釹鐵硼磁體進(jìn)行前處理;步驟二、在經(jīng)過前處理后的釹鐵硼磁體外表面進(jìn)行電鍍銅處理,形成銅鍍層;步驟三、在釹鐵硼磁體的銅鍍層的外表面進(jìn)行電鍍鎳處理,形成第一鎳鍍層;步驟四、在釹鐵硼磁體的第一鎳鍍層的外表面進(jìn)行化學(xué)鍍鎳處理,形成第二鎳鍍層。本發(fā)明提供了一種可提高釹鐵硼磁體電鍍銅鎳結(jié)合力及耐蝕性的工藝方法,其通過對電鍍前處理過程和電鍍過程進(jìn)行改善,增加與鍍層結(jié)合的面積增加鍍層與基體的結(jié)合強(qiáng)度,大大提高釹鐵硼磁體的耐腐蝕性能,降低了釹鐵硼磁體的熱減磁率。 |
