一種大尺寸晶片加工用拋光液循環(huán)裝置和方法
基本信息
申請?zhí)?/td> | CN201911377667.2 | 申請日 | - |
公開(公告)號 | CN111015500A | 公開(公告)日 | 2020-04-17 |
申請公布號 | CN111015500A | 申請公布日 | 2020-04-17 |
分類號 | B24B37/04;B24B57/02;B24B37/005 | 分類 | 磨削;拋光; |
發(fā)明人 | 郭鈺;劉春俊;彭同華;楊建 | 申請(專利權(quán))人 | 北京天科合達新材料有限公司 |
代理機構(gòu) | 北京集佳知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 | 代理人 | 北京天科合達新材料有限公司;北京天科合達半導(dǎo)體股份有限公司;江蘇天科合達半導(dǎo)體有限公司 |
地址 | 102600 北京市大興區(qū)中關(guān)村科技園區(qū)大興生物醫(yī)藥產(chǎn)業(yè)基地天榮大街9號2幢301室 | ||
法律狀態(tài) | - |
摘要
摘要 | 本發(fā)明公開了一種大尺寸晶片加工用拋光液循環(huán)裝置和方法,將拋光液混液桶的出液口用于與拋光設(shè)備的入液口相連,拋光液混液桶的第一回液口用于與拋光設(shè)備的出液口相連;檢測裝置設(shè)置于拋光液混液桶出液口至拋光設(shè)備入液口之間,并與控制器相連,檢測裝置用于檢測拋光液混液桶出液口中拋光液的穩(wěn)定性參數(shù),并將檢測結(jié)果發(fā)送至控制器;控制器與調(diào)節(jié)補給裝置相連,用于控制調(diào)節(jié)補給裝置為拋光液混液桶注入拋光液調(diào)節(jié)劑,提高拋光液的穩(wěn)定性。通過上述公開的裝置和方法,對循環(huán)使用的拋光液的穩(wěn)定性參數(shù)進行檢測,當拋光液的穩(wěn)定性參數(shù)低于預(yù)設(shè)穩(wěn)定性參數(shù)時,注入拋光液調(diào)節(jié)劑使拋光液的穩(wěn)定性參數(shù)符合預(yù)設(shè)穩(wěn)定性參數(shù),從而保證能夠達到預(yù)期拋光效果。 |
