在強散射條件下的傅里葉成像裝置及方法

基本信息

申請?zhí)?/td> CN201910813691.X 申請日 -
公開（公告）號 CN110703276B 公開（公告）日 2021-09-07
申請公布號 CN110703276B 申請公布日 2021-09-07
分類號 G01S17/89（2020.01）I;G06F17/14（2006.01）I 分類 測量；測試;
發(fā)明人 程雪岷;高子琪;張臨風;郝群;胡搖 申請（專利權）人 清華大學深圳研究生院
代理機構 深圳新創(chuàng)友知識產權代理有限公司 代理人 江耀純
地址 518055廣東省深圳市南山區(qū)西麗大學城清華校區(qū)
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本發(fā)明公開了在強散射條件下的傅里葉成像裝置，包括照明系統(tǒng)和探測系統(tǒng)，照明系統(tǒng)用于向目標物投射光線，探測系統(tǒng)用于探測被照明系統(tǒng)的光線照射后的目標物所反射的光強信息；照明系統(tǒng)包括光源以及沿光路依次設置的準直透鏡、空間光調制器和投影鏡頭，其中，投影鏡頭用于擴大被調制的光束的照射范圍；探測系統(tǒng)包括沿光路依次設置的成像透鏡和單像素相機，其中單像素相機用于探測目標物反射光線經過成像透鏡后的光強信息。本發(fā)明還公開了在利用前述成像裝置在強散射條件下的傅里葉成像方法，通過將調制光投影到目標物上采集光強信息進行聯(lián)合計算得到頻譜圖，并進行基于鄰域的頻域濾波，重構出目標物空域圖，具有較好的去散射效果。