一種金屬蔭罩及其制備方法

基本信息

申請?zhí)?/td> CN201610844430.0 申請日 -
公開（公告）號 CN106350769A 公開（公告）日 2017-01-25
申請公布號 CN106350769A 申請公布日 2017-01-25
分類號 C23C14/04(2006.01)I;C25D1/10(2006.01)I;C25D3/12(2006.01)I 分類 對金屬材料的鍍覆；用金屬材料對材料的鍍覆；表面化學(xué)處理；金屬材料的擴(kuò)散處理；真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學(xué)氣相沉積法的一般鍍覆；金屬材料腐蝕或積垢的一般抑制〔2〕;
發(fā)明人 潘仲光;陳霞玲;童圣智 申請（專利權(quán)）人 常州友機(jī)光顯電子科技有限公司
代理機(jī)構(gòu) 北京太合九思知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 代理人 常州友機(jī)光顯電子科技有限公司
地址 213031 江蘇省常州市新北區(qū)信息大道6號6棟
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本發(fā)明實(shí)施例提供一種金屬蔭罩及其制備方法，所述方法包括：在100?110℃下，以0.3?0.4MPa的壓力將感光膜貼覆在表面清潔平整的電鑄基板上，形成具有感光層的電鑄基板；以5?30mj/cm2的曝光量，對所述感光層的預(yù)設(shè)區(qū)域進(jìn)行曝光；將曝光后的具有感光層的電鑄基板，進(jìn)行顯影、烘焙及浸洗處理，得到電鑄陰極；使用所述電鑄陰極進(jìn)行電鑄工藝，得到具有與所述預(yù)設(shè)區(qū)域圖案匹配的金屬蔭罩。本發(fā)明實(shí)施例提供的金屬蔭罩及其制備方法，通過改變制膜的溫度和壓力增加感光膜在基板上的附著力，并通過優(yōu)化曝光強(qiáng)度，實(shí)現(xiàn)在感光膜上制出微孔開口小至3μm的圖形，從而制作得到開口尺寸在3?40μm的金屬蔭罩。