一種金屬蔭罩及其制備方法

基本信息

申請(qǐng)?zhí)?/td> CN201610844430.0 申請(qǐng)日 -
公開(kāi)(公告)號(hào) CN106350769A 公開(kāi)(公告)日 2017-01-25
申請(qǐng)公布號(hào) CN106350769A 申請(qǐng)公布日 2017-01-25
分類(lèi)號(hào) C23C14/04(2006.01)I;C25D1/10(2006.01)I;C25D3/12(2006.01)I 分類(lèi) 對(duì)金屬材料的鍍覆;用金屬材料對(duì)材料的鍍覆;表面化學(xué)處理;金屬材料的擴(kuò)散處理;真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學(xué)氣相沉積法的一般鍍覆;金屬材料腐蝕或積垢的一般抑制〔2〕;
發(fā)明人 潘仲光;陳霞玲;童圣智 申請(qǐng)(專(zhuān)利權(quán))人 常州友機(jī)光顯電子科技有限公司
代理機(jī)構(gòu) 北京太合九思知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 代理人 常州友機(jī)光顯電子科技有限公司
地址 213031 江蘇省常州市新北區(qū)信息大道6號(hào)6棟
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本發(fā)明實(shí)施例提供一種金屬蔭罩及其制備方法,所述方法包括:在100?110℃下,以0.3?0.4MPa的壓力將感光膜貼覆在表面清潔平整的電鑄基板上,形成具有感光層的電鑄基板;以5?30mj/cm2的曝光量,對(duì)所述感光層的預(yù)設(shè)區(qū)域進(jìn)行曝光;將曝光后的具有感光層的電鑄基板,進(jìn)行顯影、烘焙及浸洗處理,得到電鑄陰極;使用所述電鑄陰極進(jìn)行電鑄工藝,得到具有與所述預(yù)設(shè)區(qū)域圖案匹配的金屬蔭罩。本發(fā)明實(shí)施例提供的金屬蔭罩及其制備方法,通過(guò)改變制膜的溫度和壓力增加感光膜在基板上的附著力,并通過(guò)優(yōu)化曝光強(qiáng)度,實(shí)現(xiàn)在感光膜上制出微孔開(kāi)口小至3μm的圖形,從而制作得到開(kāi)口尺寸在3?40μm的金屬蔭罩。