束線型磁控濺射生產(chǎn)線

基本信息

申請?zhí)?/td> CN201820452561.9 申請日 -
公開（公告）號 CN208201106U 公開（公告）日 2018-12-07
申請公布號 CN208201106U 申請公布日 2018-12-07
分類號 C23C14/35 分類 對金屬材料的鍍覆；用金屬材料對材料的鍍覆；表面化學(xué)處理；金屬材料的擴(kuò)散處理；真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學(xué)氣相沉積法的一般鍍覆；金屬材料腐蝕或積垢的一般抑制〔2〕;
發(fā)明人 金炯;楊林;姜瓊 申請（專利權(quán)）人 杭州賽威斯真空技術(shù)有限公司
代理機(jī)構(gòu) 杭州天欣專利事務(wù)所（普通合伙） 代理人 杭州賽威斯真空技術(shù)有限公司
地址 310052 浙江省杭州市濱江區(qū)江虹南路60號2號樓
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本申請公開了一種束線型磁控濺射生產(chǎn)線，包括設(shè)置在支架上的進(jìn)出樣室、鍍膜室、高溫退火室，進(jìn)出樣室內(nèi)固定設(shè)置有第一基片放置架，在高溫退火室內(nèi)設(shè)置有第三基片放置架，其特征在于：還設(shè)置有基片傳送室、緩存室和第一升降機(jī)構(gòu)，基片傳送室分別連接進(jìn)出樣室、鍍膜室、高溫退火室和緩存室，第一基片放置架的下部連接第一升降機(jī)構(gòu)，基片傳送室內(nèi)設(shè)置有一個旋轉(zhuǎn)中心和機(jī)械手，機(jī)械手安裝在旋轉(zhuǎn)中心上，高溫退火室包括高溫室和退火室，在所述高溫室和所述的退火室之間設(shè)置有第二隔熱層，在高溫室的上面固定設(shè)置有第一隔熱層，所述的緩存室與進(jìn)出樣室為相同的結(jié)構(gòu)。