用于磁控濺射生產(chǎn)線的環(huán)靶

基本信息

申請?zhí)?/td> CN201820452564.2 申請日 -
公開（公告）號 CN208201107U 公開（公告）日 2018-12-07
申請公布號 CN208201107U 申請公布日 2018-12-07
分類號 C23C14/35 分類 對金屬材料的鍍覆；用金屬材料對材料的鍍覆；表面化學(xué)處理；金屬材料的擴散處理；真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學(xué)氣相沉積法的一般鍍覆；金屬材料腐蝕或積垢的一般抑制〔2〕;
發(fā)明人 金炯;楊林;姜瓊 申請（專利權(quán)）人 杭州賽威斯真空技術(shù)有限公司
代理機構(gòu) 杭州天欣專利事務(wù)所（普通合伙） 代理人 杭州賽威斯真空技術(shù)有限公司
地址 310052 浙江省杭州市濱江區(qū)江虹南路60號2號樓
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本申請公開了一種用于磁控濺射生產(chǎn)線的環(huán)靶，包括第一磁鋼、第二磁鋼、靶材安裝臺、屏蔽罩和冷卻水通入口，所述的靶材安裝臺設(shè)置在第一磁鋼和第二磁鋼上，所述的第一磁鋼、第二磁鋼和靶材安裝臺設(shè)置在屏蔽罩內(nèi)，所述的冷卻水通入口設(shè)置在靶材安裝臺上，其特征在于：所述的第一磁鋼水平環(huán)形設(shè)置，所述的第二磁鋼設(shè)置在兩個第一磁鋼之間，所述的第一磁鋼和第二磁鋼在同一水平面上，第一磁鋼和第二磁鋼的N級向心設(shè)置，本申請具有以下特點:提高靶材使用率，節(jié)約成本，安裝便捷。