一種磁控濺射圓形雙環(huán)靶

基本信息

申請(qǐng)?zhí)?/td> CN201820453830.3 申請(qǐng)日 -
公開（公告）號(hào) CN208201108U 公開（公告）日 2018-12-07
申請(qǐng)公布號(hào) CN208201108U 申請(qǐng)公布日 2018-12-07
分類號(hào) C23C14/35 分類 對(duì)金屬材料的鍍覆；用金屬材料對(duì)材料的鍍覆；表面化學(xué)處理；金屬材料的擴(kuò)散處理；真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學(xué)氣相沉積法的一般鍍覆；金屬材料腐蝕或積垢的一般抑制〔2〕;
發(fā)明人 金炯;楊林;姜瓊 申請(qǐng)（專利權(quán)）人 杭州賽威斯真空技術(shù)有限公司
代理機(jī)構(gòu) 杭州天欣專利事務(wù)所（普通合伙） 代理人 陳紅
地址 310052 浙江省杭州市濱江區(qū)江虹南路60號(hào)2號(hào)樓
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本申請(qǐng)公開了一種磁控濺射圓形雙環(huán)靶，包括第一磁鋼、第二磁鋼、靶材安裝臺(tái)、屏蔽罩和水冷通道，所述的第一磁鋼、第二磁鋼、靶材安裝臺(tái)和水冷通道設(shè)置在屏蔽罩內(nèi)，所述的靶材安裝臺(tái)設(shè)置在第二磁鋼上，所述的第二磁鋼環(huán)形設(shè)置在第一磁鋼的四周，其特征在于：還設(shè)置有磁軛和調(diào)節(jié)螺母，所述的磁軛設(shè)置在所述的靶材安裝臺(tái)的下部，所述的第一磁鋼設(shè)置在磁軛的下部，所述的調(diào)節(jié)螺母設(shè)置在第一磁鋼的下部，所述的第一磁鋼和第二磁鋼的N級(jí)都是豎直向上設(shè)置，本申請(qǐng)具有以下特點(diǎn):提高靶材使用率，節(jié)約成本，安裝便捷。