具有磁性反射層成像單元的光學(xué)成像元件及其制備方法

基本信息

申請?zhí)?/td> CN202210057106.X 申請日 -
公開（公告）號 CN114089445B 公開（公告）日 2022-04-29
申請公布號 CN114089445B 申請公布日 2022-04-29
分類號 G02B1/00（2006.01）I;C09J151/00（2006.01）I;C09J11/04（2006.01）I;C08F265/06（2006.01）I 分類 光學(xué);
發(fā)明人 郝雅棋;張兵 申請（專利權(quán)）人 像航（如東）科技有限公司
代理機構(gòu) 北京挺立專利事務(wù)所（普通合伙） 代理人 余瑩
地址 226499江蘇省南通市如東經(jīng)濟開發(fā)區(qū)牡丹江路159號
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本發(fā)明提供具有磁性反射層成像單元的光學(xué)成像元件及其制備方法，光學(xué)成像元件包括若干個疊加的光學(xué)成像單元，光學(xué)成像單元包括上層透光層疊體和下層透光層疊體，上層透光層疊體和下層透光層疊體均為若干個帶有反射層的透光條并列組成，上層透光層疊體中的第一透光條方向與下層透光層疊體中的第二透光條方向呈垂直相交設(shè)置；反射層為三明治層疊金屬磁性薄層，包括第一金屬鋁層、中央磁性層和第二金屬鋁層。本發(fā)明能夠形成積木結(jié)構(gòu)的二元磁光光子晶體，或在多個光學(xué)成像單元疊放時形成三元磁光光子晶體結(jié)構(gòu)，在禁帶邊緣的非互易效應(yīng)達到最大，利用非互易相移區(qū)域?qū)崿F(xiàn)了不需要巨大的厚度就可以實現(xiàn)非互易相移區(qū)域，降低光損耗，提高折射成像準確度。