一種熱敏印版曝光機構(gòu)保護裝置及熱敏直接制版機

基本信息

申請?zhí)?/td> CN202120041509.6 申請日 -
公開（公告）號 CN214324522U 公開（公告）日 2021-10-01
申請公布號 CN214324522U 申請公布日 2021-10-01
分類號 B41C1/055（2006.01）I;B08B15/04（2006.01）I;B01D46/00（2006.01）I;B01D46/10（2006.01）I 分類 印刷；排版機；打字機；模印機〔4〕;
發(fā)明人 蘇春讓;王潔;王科 申請（專利權(quán)）人 中煤航測遙感集團有限公司
代理機構(gòu) 北京超凡宏宇專利代理事務所（特殊普通合伙） 代理人 張洋
地址 710199陜西省西安市航天基地神舟四路216號
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本實用新型提供了一種熱敏印版曝光機構(gòu)保護裝置及熱敏直接制版機，涉及一種熱敏印刷制版領域，熱敏印版曝光機構(gòu)保護裝置包括光源，光學模組以及除塵機構(gòu)；光學模組設置于光源的出光側(cè)，用于對熱敏印版曝光，除塵機構(gòu)設置于光學模組的一側(cè)。本實用新型的目的在于提供一種熱敏印版曝光機構(gòu)保護裝置及熱敏直接制版機，其能夠有效清除熱敏直接制版機光學模組曝光時熱敏印版產(chǎn)生的粉塵，有效減少光學模組的故障率，提高熱敏直接制版機的光學模組的穩(wěn)定性，提高熱敏直接制版機的工作效率。