任意尺寸底板及顯示屏的氣相沉積蔭罩板系統(tǒng)及其方法

基本信息

申請(qǐng)?zhí)?/td> CN201510203396.4 申請(qǐng)日 -
公開(kāi)（公告）號(hào) CN104862669B 公開(kāi)（公告）日 2018-05-22
申請(qǐng)公布號(hào) CN104862669B 申請(qǐng)公布日 2018-05-22
分類號(hào) C23C16/44 分類 對(duì)金屬材料的鍍覆；用金屬材料對(duì)材料的鍍覆；表面化學(xué)處理；金屬材料的擴(kuò)散處理；真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學(xué)氣相沉積法的一般鍍覆；金屬材料腐蝕或積垢的一般抑制〔2〕;
發(fā)明人 潘重光 申請(qǐng)（專利權(quán)）人 上海積導(dǎo)科技股份有限公司
代理機(jī)構(gòu) 廈門市新華專利商標(biāo)代理有限公司 代理人 朱凌
地址 201600 上海市松江區(qū)茸華路629號(hào)8幢4層405-407室
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本發(fā)明公開(kāi)一種任意尺寸底板及顯示屏的氣相沉積蔭罩板系統(tǒng)及其方法，包括一真空室，所述真空室內(nèi)具有位于其中的M組蔭罩板和沉積源；一基板，具有M個(gè)基本單元，每一基本單元均一致性地被分割為四個(gè)區(qū)域；一蔭罩板和沉積源的傳動(dòng)裝置，用于使所述M組蔭罩板和沉積源同時(shí)在四個(gè)不同時(shí)間里且在所述真空室內(nèi)依次進(jìn)行平移，該M組蔭罩板和沉積源分別依次對(duì)應(yīng)于M個(gè)基本單元中每一基本單元的四個(gè)不同區(qū)域；其中，M為大于1的自然數(shù)。本發(fā)明具有能簡(jiǎn)化整個(gè)沉積系統(tǒng)、移動(dòng)次數(shù)少以及能控制沉積材料的功效。