一種多區(qū)域多源共蒸發(fā)系統(tǒng)

基本信息

申請?zhí)?/td> CN201621333368.0 申請日 -
公開（公告）號 CN206232799U 公開（公告）日 2017-06-09
申請公布號 CN206232799U 申請公布日 2017-06-09
分類號 C23C14/24(2006.01)I 分類 對金屬材料的鍍覆；用金屬材料對材料的鍍覆；表面化學(xué)處理；金屬材料的擴(kuò)散處理；真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學(xué)氣相沉積法的一般鍍覆；金屬材料腐蝕或積垢的一般抑制〔2〕;
發(fā)明人 溫旭輝;苗長偉;李劍輝;張堅(jiān) 申請（專利權(quán)）人 成都南光機(jī)器有限公司
代理機(jī)構(gòu) 成都弘毅天承知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 代理人 成都南光機(jī)器有限公司
地址 610000 四川省成都市龍泉驛區(qū)星光西路115號
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本實(shí)用新型涉及CIGS薄膜制作領(lǐng)域，尤其涉及一種多區(qū)域多源共蒸發(fā)系統(tǒng)。本實(shí)用新型的目的在于提供一種在蒸鍍過程中蒸鍍材料的種類和順序可以改變、PI襯板與蒸鍍材料之間的距離可以調(diào)整的多區(qū)域多源共蒸發(fā)系統(tǒng)。其技術(shù)方案：一種多區(qū)域多源共蒸發(fā)系統(tǒng)，包括順次連接的第一真空系統(tǒng)、放卷室、工藝區(qū)、收卷室、第二真空系統(tǒng)；所述工藝區(qū)設(shè)置有若干蒸鍍區(qū)，蒸鍍區(qū)開有空門，蒸鍍區(qū)內(nèi)放置有頂部開口的蒸鍍箱，所述蒸鍍箱內(nèi)放置有蒸鍍材料；所述工藝區(qū)頂部安裝有氣缸，氣缸的活塞桿上連接有滾輪，放卷室和收卷室之間連接有PI襯底，滾輪將PI襯底壓緊。本實(shí)用新型適用于不同產(chǎn)品的蒸鍍，蒸鍍效果好。