一種熱蒸發(fā)鍍膜機(jī)

基本信息

申請?zhí)?/td> CN201720290585.4 申請日 -
公開（公告）號 CN206635398U 公開（公告）日 2017-11-14
申請公布號 CN206635398U 申請公布日 2017-11-14
分類號 C23C14/24(2006.01)I 分類 對金屬材料的鍍覆；用金屬材料對材料的鍍覆；表面化學(xué)處理；金屬材料的擴(kuò)散處理；真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學(xué)氣相沉積法的一般鍍覆；金屬材料腐蝕或積垢的一般抑制〔2〕;
發(fā)明人 崔海波;李劍輝;張堅(jiān) 申請（專利權(quán)）人 成都南光機(jī)器有限公司
代理機(jī)構(gòu) 成都弘毅天承知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 代理人 成都南光機(jī)器有限公司
地址 610000 四川省成都市龍泉驛區(qū)星光西路115號
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本實(shí)用新型記載了一種熱蒸發(fā)鍍膜機(jī)，包括機(jī)架，機(jī)架內(nèi)設(shè)置有真空室，真空室上罩設(shè)有鐘罩，真空室的上方轉(zhuǎn)動設(shè)置有轉(zhuǎn)臺，轉(zhuǎn)臺的臺邊均勻設(shè)置有多個基片架，所述機(jī)架上設(shè)置有翻轉(zhuǎn)基片架的撥動裝置，基片架上還設(shè)置有限制基片架翻轉(zhuǎn)的限位裝置。將待鍍膜的基片卡設(shè)在基片架上，真空室內(nèi)被加熱的靶材蒸發(fā)后沉降在基片表面，待基片的第一面鍍膜完成后，啟動撥動裝置，在撥動裝置的作用下基片架開始翻轉(zhuǎn)，待翻轉(zhuǎn)到合適位置時(shí)，限位裝置將對翻轉(zhuǎn)基片架進(jìn)行限位，提高了翻轉(zhuǎn)系統(tǒng)的結(jié)構(gòu)穩(wěn)定性。與此同時(shí)，采用撥動裝置使得基片架的翻轉(zhuǎn)更為靈活可靠。