一種對(duì)聚酰亞胺襯底的兩面進(jìn)行鍍制的濺射裝置
基本信息
申請(qǐng)?zhí)?/td> | CN201720290190.4 | 申請(qǐng)日 | - |
公開(公告)號(hào) | CN206599603U | 公開(公告)日 | 2017-10-31 |
申請(qǐng)公布號(hào) | CN206599603U | 申請(qǐng)公布日 | 2017-10-31 |
分類號(hào) | C23C14/20(2006.01)I;C23C14/35(2006.01)I;C23C14/56(2006.01)I | 分類 | 對(duì)金屬材料的鍍覆;用金屬材料對(duì)材料的鍍覆;表面化學(xué)處理;金屬材料的擴(kuò)散處理;真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學(xué)氣相沉積法的一般鍍覆;金屬材料腐蝕或積垢的一般抑制〔2〕; |
發(fā)明人 | 董鳳林;崔海波;李劍輝;張堅(jiān) | 申請(qǐng)(專利權(quán))人 | 成都南光機(jī)器有限公司 |
代理機(jī)構(gòu) | 成都弘毅天承知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 | 代理人 | 成都南光機(jī)器有限公司 |
地址 | 610000 四川省成都市龍泉驛區(qū)星光西路115號(hào) | ||
法律狀態(tài) | - |
摘要
摘要 | 本實(shí)用新型記載了一種對(duì)聚酰亞胺襯底的兩面進(jìn)行鍍制的濺射裝置,包括真空室,真空室內(nèi)設(shè)置有對(duì)聚酰亞胺襯底進(jìn)行輸送的傳送設(shè)備,傳送設(shè)備的一側(cè)設(shè)置有對(duì)聚酰亞胺襯底的背面進(jìn)行濺射的濺射機(jī)構(gòu)A,傳送設(shè)備的另一側(cè)設(shè)置有對(duì)聚酰亞胺襯底正面進(jìn)行濺射的濺射機(jī)構(gòu)B。本實(shí)用新型新增了對(duì)聚酰亞胺襯底背面進(jìn)行濺射的濺射機(jī)構(gòu)A,對(duì)聚酰亞胺襯底的背面事先預(yù)鍍一層耐磨材料,提前通過背面濺射鍍膜方式加入背面預(yù)應(yīng)力,通過后續(xù)的濺射機(jī)構(gòu)B對(duì)聚酰亞胺襯底的正面進(jìn)行磁控濺射鍍膜后來實(shí)現(xiàn)應(yīng)力的平衡,避免出現(xiàn)應(yīng)力釋放造成薄膜損壞的現(xiàn)象發(fā)生。于此同時(shí),也將聚酰亞胺襯底應(yīng)力變形減少到了最小,提高了成膜的平整度。 |
