可變點陣全息隱形圖案成型方法

基本信息

申請?zhí)?/td> CN201911155213.0 申請日 -
公開（公告）號 CN111300963A 公開（公告）日 2020-06-19
申請公布號 CN111300963A 申請公布日 2020-06-19
分類號 B41C1/05(2006.01)I 分類 -
發(fā)明人 陳維斌;陳敏輝;劉振江 申請（專利權(quán)）人 珠海市瑞明科技有限公司
代理機構(gòu) 廣州嘉權(quán)專利商標事務(wù)所有限公司 代理人 珠海市瑞明科技有限公司
地址 519000廣東省珠海市金灣區(qū)三灶鎮(zhèn)安基東路528號
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本發(fā)明公開了一種可變點陣全息隱形圖案成型方法，包括：設(shè)計微結(jié)構(gòu)圖案；將微結(jié)構(gòu)圖案繪制成光柵點陣；光柵點陣送至鉑金浮雕機，鉑金浮雕機將光柵點陣參數(shù)解讀并傳送至激光器，激光器將光柵點陣激光蝕刻在光刻膠版上；將蝕刻過的光刻膠版經(jīng)由顯影液顯影出圖案以成為光刻母片；根據(jù)印刷載體，光刻母片將圖案轉(zhuǎn)印至定位轉(zhuǎn)移膜、電化鋁、復(fù)合紙或薄膜上。本方法改變傳統(tǒng)的機械切割技術(shù)，自主設(shè)計微結(jié)構(gòu)圖案，再將微結(jié)構(gòu)圖案繪制成光柵點陣，依次通過鉑金浮雕機和激光器將光柵點陣激光蝕刻在光刻膠版，并形成光刻母片以將圖案轉(zhuǎn)印至各類產(chǎn)品上，使得用戶在產(chǎn)品表觀上看不到圖形內(nèi)容，達到隱形防偽的目的。??