可改善單片清洗固體結(jié)晶物堆積的裝置及濕法清洗設(shè)備

基本信息

申請(qǐng)?zhí)?/td> CN202011631610.3 申請(qǐng)日 -
公開(kāi)（公告）號(hào) CN112845296A 公開(kāi)（公告）日 2021-05-28
申請(qǐng)公布號(hào) CN112845296A 申請(qǐng)公布日 2021-05-28
分類號(hào) B08B3/02;B08B3/08;B08B3/10;B08B3/12;B08B13/00;H01L21/67 分類 清潔;
發(fā)明人 盧證凱;鄧信甫;劉大威;陳丁堃 申請(qǐng)（專利權(quán)）人 江蘇啟微半導(dǎo)體設(shè)備有限公司
代理機(jī)構(gòu) 上海智力專利商標(biāo)事務(wù)所（普通合伙） 代理人 杜冰云;周濤
地址 200241 上海市閔行區(qū)紫海路170號(hào)1幢3層03室
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本發(fā)明公開(kāi)了一種可改善單片清洗固體結(jié)晶物堆積的裝置及濕法清洗設(shè)備，所述裝置包括清洗機(jī)構(gòu)和用以帶動(dòng)清洗機(jī)構(gòu)上下移動(dòng)和在圓周方向旋轉(zhuǎn)的頂升旋轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)，所述清洗機(jī)構(gòu)包括套設(shè)在頂升旋轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)上的晶圓定位組件以及扣合固定在晶圓定位組件上的管件外殼，所述管件外殼內(nèi)設(shè)置有晶圓吸附管和清洗液輸送管。本發(fā)明利用伯努利原理使晶圓懸浮在該裝置上方，可對(duì)清洗晶圓背面的污染物進(jìn)行徹底清洗，提高了清洗效果，提高了清洗效率。