一種用于濾波片的鍍膜光刻方法

基本信息

申請?zhí)?/td> CN202111086543.6 申請日 -
公開（公告）號 CN113960888A 公開（公告）日 2022-01-21
申請公布號 CN113960888A 申請公布日 2022-01-21
分類號 G03F7/20（2006.01）I;G03F7/16（2006.01）I;G03F7/40（2006.01）I 分類 攝影術(shù)；電影術(shù)；利用了光波以外其他波的類似技術(shù)；電記錄術(shù)；全息攝影術(shù)〔4〕;
發(fā)明人 張威;馬帥;周常河;丁自強;謝才林 申請（專利權(quán)）人 江蘇星浪光學(xué)儀器有限公司
代理機構(gòu) 合肥錦輝利標專利代理事務(wù)所（普通合伙） 代理人 陳鑠
地址 225600江蘇省揚州市高郵市城南經(jīng)濟新區(qū)中心大道118號
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本發(fā)明涉及濾波片加工技術(shù)領(lǐng)域，具體為一種用于濾波片的鍍膜光刻方法，包括對濾波片的清潔、鍍膜、烘干和光刻加工處理，本發(fā)明是通過在機箱的左側(cè)設(shè)置清潔倉，在將放料架推入機箱內(nèi)部之前，利用清潔倉內(nèi)部的離子束發(fā)生器對濾波片的表面進行清潔處理，保證濾波片在進入機箱內(nèi)部后表面干凈，接著將經(jīng)過清潔處理后的濾波片送入機箱的內(nèi)部，在機箱的內(nèi)部對濾波片的表面依次進行光刻膠膜加工、光刻和濾波膜加工，完成濾波片的鍍膜光刻處理，濾波片的整個加工過程均位于機箱的內(nèi)部，利用機箱隔絕外界的污染，保證濾波片在進行鍍膜光刻的加工過程中不會受到外界污染，進而有效提高對濾波片的加工成品質(zhì)量，降低濾波片加工后的報廢率。