一種用于真空磁控濺射的鋁銀合金靶材及其制備方法

基本信息

申請(qǐng)?zhí)?/td> CN201910398226.4 申請(qǐng)日 -
公開（公告）號(hào) CN109989045A 公開（公告）日 2019-07-09
申請(qǐng)公布號(hào) CN109989045A 申請(qǐng)公布日 2019-07-09
分類號(hào) C23C14/35（2006.01）I; C22C21/00（2006.01）I; C22C1/03（2006.01）I; C22C1/06（2006.01）I 分類 對(duì)金屬材料的鍍覆；用金屬材料對(duì)材料的鍍覆；表面化學(xué)處理；金屬材料的擴(kuò)散處理；真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學(xué)氣相沉積法的一般鍍覆；金屬材料腐蝕或積垢的一般抑制〔2〕;
發(fā)明人 趙宏達(dá); 劉革; 常占河; 柳泉; 于志凱 申請(qǐng)（專利權(quán)）人 沈陽(yáng)東創(chuàng)貴金屬材料有限公司
代理機(jī)構(gòu) 沈陽(yáng)東大知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 代理人 沈陽(yáng)東創(chuàng)貴金屬材料有限公司
地址 110015 遼寧省沈陽(yáng)市沈河區(qū)文化東路89號(hào)
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本發(fā)明的一種用于真空磁控濺射的鋁銀合金靶材及其制備方法。靶材包括組分及質(zhì)量百分含量為39.0～70.0wt.％Al，29.0～60wt.％Ag，0.3～0.5wt.Zn％，0.1～0.3wt.％Mn，0.1～0.2wt.％Si，0.05～0.1wt.％Sb，0.05～0.1wt.％Cr，0.01?0.02wt.％Y。制法為：將鋁進(jìn)行加熱熔化后，先后依次加入金屬銀，錳、硅、銻、鉻、鋁釔中間合金和鋅，熔化后加入造渣劑進(jìn)行除渣，澆入模具形成鑄錠后，控制相應(yīng)參數(shù)進(jìn)行熱鍛、軋制、裁剪與表面處理，獲得鋁銀合金靶材。采用該方法制得靶材經(jīng)鍍膜后，可獲得色澤均勻、耐蝕性良好、亮度較高的膜層，具有廣闊的市場(chǎng)應(yīng)用前景。