一種拋光轉(zhuǎn)臺及其多工藝拋光加工平臺

基本信息

申請?zhí)?/td> CN202220499433.6 申請日 -
公開（公告）號 CN216859324U 公開（公告）日 2022-07-01
申請公布號 CN216859324U 申請公布日 2022-07-01
分類號 B24B29/02（2006.01）I;B24B27/00（2006.01）I;B24B57/02（2006.01）I;B24B57/00（2006.01）I;B24B41/00（2006.01）I;B24B41/06（2012.01）I 分類 磨削；拋光;
發(fā)明人 許聰聰;馮銘;廖煜暉;張澤林;張祥雷;周宏明 申請（專利權(quán)）人 溫州大學(xué)
代理機構(gòu) 北京盛凡佳華專利代理事務(wù)所（普通合伙） 代理人 -
地址 325035浙江省溫州市甌海區(qū)茶山鎮(zhèn)溫州高教園區(qū)溫州大學(xué)
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本實用新型公開了一種拋光轉(zhuǎn)臺及其多工藝拋光加工平臺，屬于拋光設(shè)備技術(shù)領(lǐng)域，包括頂面設(shè)有拋光座的轉(zhuǎn)盤，轉(zhuǎn)盤中部設(shè)有通孔，轉(zhuǎn)盤底面設(shè)有與通孔連通的中空轉(zhuǎn)軸，轉(zhuǎn)盤頂面設(shè)置有罩設(shè)在拋光座上方的收集漏斗，拋光座上設(shè)有端頭穿過收集漏斗表面的連接軸，連接軸的端頭上設(shè)有工位平臺，收集漏斗的漏液管通過通孔伸入中空轉(zhuǎn)軸內(nèi)部；還提供了一種多工藝拋光加工平臺，包括固定基座，轉(zhuǎn)盤轉(zhuǎn)動連接在固定基座上，固定基座上周向布設(shè)有上料區(qū)和若干個拋光區(qū)，若干個拋光區(qū)連續(xù)設(shè)置且均對轉(zhuǎn)至此處的工位平臺上的工件進行拋光；收集漏斗將拋光座罩設(shè)在下面，能夠及時有效的將噴射出的拋光液回收，另一方面能夠?qū)伖庾纬杀Ｗo，避免拋光液濺入造成拋光座內(nèi)部線路短路。