光學(xué)測量參考裝置
基本信息
| 申請?zhí)?/td> | CN202011408031.2 | 申請日 | - |
| 公開（公告）號(hào) | CN112525176A | 公開（公告）日 | 2021-03-19 |
| 申請公布號(hào) | CN112525176A | 申請公布日 | 2021-03-19 |
| 分類號(hào) | G01C15/02(2006.01)I | 分類 | 測量；測試; |
| 發(fā)明人 | 杜華;董偉超;李智;李洲強(qiáng) | 申請（專利權(quán)）人 | 北京天遠(yuǎn)三維科技有限公司 |
| 代理機(jī)構(gòu) | 北京開陽星知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 | 代理人 | 楊中鶴;麻雪梅 |
| 地址 | 100192北京市海淀區(qū)清河永泰園甲1號(hào)綜合樓512-519房間 | ||
| 法律狀態(tài) | - | ||
摘要
| 摘要 | 本公開涉及光學(xué)測量技術(shù)領(lǐng)域，尤其涉及一種光學(xué)測量參考裝置。包括至少四個(gè)靶標(biāo)和至少一個(gè)主體支撐結(jié)構(gòu)，每個(gè)靶標(biāo)均包括與主體支撐結(jié)構(gòu)連接的固定部、遠(yuǎn)離主體支撐結(jié)構(gòu)的端頭部以及位于固定部與端頭部之間的側(cè)端部，側(cè)端部上設(shè)有至少一組第一標(biāo)記點(diǎn)，每組第一標(biāo)記點(diǎn)的中心均位于同一平面上，同一組的第一標(biāo)記點(diǎn)的中心所在平面平行于相對應(yīng)的靶標(biāo)所在的球體的切平面，主體支撐結(jié)構(gòu)上設(shè)有安裝部。本公開通過對靶標(biāo)以及靶標(biāo)上標(biāo)記點(diǎn)的位置進(jìn)行設(shè)置，可滿足全方位無死角的任意觀測角度需求，并將其模塊化，從而在保證測量精度和可靠性的同時(shí)，有效提升了技術(shù)的適用性和效率，并大幅降低了技術(shù)門檻和方案成本。?? |
