光學(xué)測(cè)量參考裝置

基本信息

申請(qǐng)?zhí)?/td> CN202022910271.4 申請(qǐng)日 -
公開（公告）號(hào) CN213902371U 公開（公告）日 2021-08-06
申請(qǐng)公布號(hào) CN213902371U 申請(qǐng)公布日 2021-08-06
分類號(hào) G01C15/02（2006.01）I 分類 測(cè)量；測(cè)試;
發(fā)明人 杜華;董偉超;李智;李洲強(qiáng) 申請(qǐng)（專利權(quán)）人 北京天遠(yuǎn)三維科技有限公司
代理機(jī)構(gòu) 北京開陽(yáng)星知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 代理人 楊中鶴;麻雪梅
地址 100192北京市海淀區(qū)清河永泰園甲1號(hào)綜合樓512-519房間
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本公開涉及光學(xué)測(cè)量技術(shù)領(lǐng)域，尤其涉及一種光學(xué)測(cè)量參考裝置。包括至少四個(gè)靶標(biāo)和至少一個(gè)主體支撐結(jié)構(gòu)，每個(gè)靶標(biāo)均包括與主體支撐結(jié)構(gòu)連接的固定部、遠(yuǎn)離主體支撐結(jié)構(gòu)的端頭部以及位于固定部與端頭部之間的側(cè)端部，側(cè)端部上設(shè)有至少一組第一標(biāo)記點(diǎn)，每組第一標(biāo)記點(diǎn)的中心均位于同一平面上，同一組的第一標(biāo)記點(diǎn)的中心所在平面平行于相對(duì)應(yīng)的靶標(biāo)所在的球體的切平面，主體支撐結(jié)構(gòu)上設(shè)有安裝部。本公開通過(guò)對(duì)靶標(biāo)以及靶標(biāo)上標(biāo)記點(diǎn)的位置進(jìn)行設(shè)置，可滿足全方位無(wú)死角的任意觀測(cè)角度需求，并將其模塊化，從而在保證測(cè)量精度和可靠性的同時(shí)，有效提升了技術(shù)的適用性和效率，并大幅降低了技術(shù)門檻和方案成本。