蝕刻液及其制備方法和應(yīng)用

基本信息

申請?zhí)?/td> CN202111276160.5 申請日 -
公開（公告）號 CN113957441A 公開（公告）日 2022-01-21
申請公布號 CN113957441A 申請公布日 2022-01-21
分類號 C23F1/26（2006.01）I;H01L21/3213（2006.01）I;H01L21/768（2006.01）I 分類 對金屬材料的鍍覆；用金屬材料對材料的鍍覆；表面化學(xué)處理；金屬材料的擴散處理；真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學(xué)氣相沉積法的一般鍍覆；金屬材料腐蝕或積垢的一般抑制〔2〕;
發(fā)明人 周志強;袁明軍;李治文;杜小林;胡秋雨;劉彬云 申請（專利權(quán)）人 廣東光華科技股份有限公司
代理機構(gòu) 廣州華進聯(lián)合專利商標(biāo)代理有限公司 代理人 黎金娣
地址 511400廣東省廣州市番禺區(qū)石樓鎮(zhèn)創(chuàng)啟路63號創(chuàng)啟7號樓
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本發(fā)明涉及一種蝕刻液及其制備方法應(yīng)用，該蝕刻液包括水、氟鹽、鋁緩蝕劑和氧化劑；所述鋁緩蝕劑的結(jié)構(gòu)中含有氮原子和硼羥基，或所述鋁緩蝕劑的結(jié)構(gòu)中含有氮原子和硼酸頻哪醇酯基。該蝕刻液能快速蝕刻腐蝕鈦而對鋁的腐蝕作用較小，蝕刻系數(shù)大，能夠滿足目前半導(dǎo)體晶圓封裝工藝制作精細線路的制程要求，且安全可靠，對環(huán)境污染小，具有廣闊的應(yīng)用前景。