蝕刻液及其制備方法與應用

基本信息

申請?zhí)?/td> CN202210568533.4 申請日 -
公開（公告）號 CN114752939A 公開（公告）日 2022-07-15
申請公布號 CN114752939A 申請公布日 2022-07-15
分類號 C23F1/26（2006.01）I;C23F11/16（2006.01）I 分類 對金屬材料的鍍覆；用金屬材料對材料的鍍覆；表面化學處理；金屬材料的擴散處理；真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學氣相沉積法的一般鍍覆；金屬材料腐蝕或積垢的一般抑制〔2〕;
發(fā)明人 周志強;胡秋雨;袁明軍;李治文;鐘上彪;劉彬云 申請（專利權）人 廣東光華科技股份有限公司
代理機構 華進聯(lián)合專利商標代理有限公司 代理人 -
地址 511400廣東省廣州市番禺區(qū)石樓鎮(zhèn)創(chuàng)啟路63號創(chuàng)啟7號樓
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本發(fā)明提供了一種蝕刻液，蝕刻液包括如下組分：無機酸、氧化劑、銅緩蝕劑、助溶劑與水；其中，所述銅緩蝕劑包括含有苯磺酰胺基團的化合物與有機羧酸的混合物；所述有機羧酸的分子式為R?COOH，R為具有2至5個C原子并且被2至4個羥基取代的烴基。該蝕刻液高效、性能穩(wěn)定且反應條件溫和，對銅腐蝕作用小，并且環(huán)保。