一種用于清洗經(jīng)化學(xué)機(jī)械拋光的晶片的清洗組合物

基本信息

申請?zhí)?/td> CN201810082805.3 申請日 -
公開（公告）號 CN110093616A 公開（公告）日 2019-08-06
申請公布號 CN110093616A 申請公布日 2019-08-06
分類號 C23G1/26 分類 對金屬材料的鍍覆；用金屬材料對材料的鍍覆；表面化學(xué)處理；金屬材料的擴(kuò)散處理；真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學(xué)氣相沉積法的一般鍍覆；金屬材料腐蝕或積垢的一般抑制〔2〕;
發(fā)明人 曹立志;王新龍;支肖瓊;楊玉川;周友 申請（專利權(quán)）人 張家港奧擎電子化學(xué)有限責(zé)任公司
代理機(jī)構(gòu) 北京市中咨律師事務(wù)所 代理人 肖威;劉金輝
地址 215634 江蘇省蘇州市張家港保稅區(qū)新興產(chǎn)業(yè)育成中心A棟210B室
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本發(fā)明提供了一種用于清洗經(jīng)化學(xué)機(jī)械拋光的晶片的清洗組合物，其包含聚乙烯亞胺、鏈烷醇胺、金屬腐蝕抑制劑和任選的非離子表面活性劑。本發(fā)明清洗組合物可用于對化學(xué)機(jī)械拋光后的含金屬晶片進(jìn)行表面清洗。本發(fā)明清洗組合物可將拋光后殘留在晶片表面的研磨顆粒、各種有機(jī)殘留物和金屬離子去除，降低表面缺陷，并且可以防止金屬表面的腐蝕。