一種手機(jī)攝像頭蓋板鍍膜結(jié)構(gòu)

基本信息

申請(qǐng)?zhí)?/td> CN202010523764.4 申請(qǐng)日 -
公開（公告）號(hào) CN111835896B 公開（公告）日 2021-10-12
申請(qǐng)公布號(hào) CN111835896B 申請(qǐng)公布日 2021-10-12
分類號(hào) H04N5/225（2006.01）I;H04M1/02（2006.01）I;C23C14/00（2006.01）I;C23C14/06（2006.01）I;C23C14/08（2006.01）I;C23C14/10（2006.01）I;C23C14/24（2006.01）I;C23C14/34（2006.01）I;C23C14/35（2006.01）I 分類 電通信技術(shù);
發(fā)明人 沈福根 申請(qǐng)（專利權(quán)）人 深圳市銳歐光學(xué)股份有限公司
代理機(jī)構(gòu) 深圳眾鼎專利商標(biāo)代理事務(wù)所（普通合伙） 代理人 譚果林
地址 518000廣東省深圳市寶安區(qū)福海街道和平社區(qū)和泰工業(yè)區(qū)（和豐工業(yè)園）廠房5棟101至401
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 為克服現(xiàn)有手機(jī)攝像頭蓋板中存在耐磨損性能不足的問題，本發(fā)明提供了一種手機(jī)攝像頭蓋板鍍膜結(jié)構(gòu)，包括基板、減反射層和抗指紋層，所述基板具有用于攝像頭露出的透光區(qū)，所述減反射層位于所述透光區(qū)的兩側(cè)表面，所述抗指紋層位于所述基板的一側(cè)表面，且其中一個(gè)所述減反射層位于所述抗指紋層和所述基板之間，所述抗指紋層為氮化鈦和聚四氟乙烯的混合濺鍍層，所述抗指紋層中氮化鈦和聚四氟乙烯的摩爾比為0.1～0.3：1。本發(fā)明提供的手機(jī)攝像頭蓋板鍍膜結(jié)構(gòu)具有良好的耐摩擦性能，在持續(xù)摩擦作用下仍能保持其抗指紋特性。