一種高精度全自動雙面曝光機(jī)
基本信息
| 申請?zhí)?/td> | CN201921401480.7 | 申請日 | - |
| 公開（公告）號 | CN210864317U | 公開（公告）日 | 2020-06-26 |
| 申請公布號 | CN210864317U | 申請公布日 | 2020-06-26 |
| 分類號 | G03F7/20(2006.01)I | 分類 | - |
| 發(fā)明人 | 李明之;朱偉杰;李壯 | 申請（專利權(quán)）人 | 愛司凱科技股份有限公司 |
| 代理機(jī)構(gòu) | 杭州君度專利代理事務(wù)所（特殊普通合伙） | 代理人 | 愛司凱科技股份有限公司 |
| 地址 | 510000廣東省廣州市中新廣州知識城九佛建設(shè)新街18號自編112房 | ||
| 法律狀態(tài) | - | ||
摘要
| 摘要 | 本實用新型涉及一種高精度全自動雙面曝光機(jī)，其包括機(jī)架，用于支撐安裝曝光機(jī)中的各個模塊和系統(tǒng)；上框系統(tǒng)，位于機(jī)架內(nèi)部，包括為產(chǎn)品上表面曝光提供圖案的上掩膜板；對準(zhǔn)系統(tǒng)，包括為產(chǎn)品下表面曝光提供圖案的下掩膜板，對準(zhǔn)系統(tǒng)用于實現(xiàn)上掩膜版和下掩膜版的精確對準(zhǔn)，對準(zhǔn)系統(tǒng)設(shè)于上框系統(tǒng)的下方；進(jìn)出料系統(tǒng)，包括進(jìn)料系統(tǒng)和出料系統(tǒng)，用于對產(chǎn)品的自動進(jìn)料和自動出料；機(jī)械手系統(tǒng)；視覺系統(tǒng)；曝光模塊；恒溫恒濕模塊；控制系統(tǒng)。本實用新型通過對準(zhǔn)系統(tǒng)和視覺系統(tǒng)實現(xiàn)雙面曝光機(jī)上下掩膜版的對準(zhǔn)，能夠防止曝光時圖案錯位，提高曝光質(zhì)量，通過對準(zhǔn)單元能夠完成多方向和角度的調(diào)整，對準(zhǔn)精度高。?? |
