一種質(zhì)譜裝置的控制系統(tǒng)及方法

基本信息

申請(qǐng)?zhí)?/td> CN202111081879.3 申請(qǐng)日 -
公開(kāi)（公告）號(hào) CN113745091A 公開(kāi)（公告）日 2021-12-03
申請(qǐng)公布號(hào) CN113745091A 申請(qǐng)公布日 2021-12-03
分類號(hào) H01J49/40（2006.01）I;H01J49/00（2006.01）I;H01J49/02（2006.01）I;H01J49/04（2006.01）I;H01J49/06（2006.01）I;H01J49/24（2006.01）I;G01N27/64（2006.01）I 分類 基本電氣元件;
發(fā)明人 何浩睿;鐘晟;鄭杰;吳小亮;劉彬 申請(qǐng)（專利權(quán)）人 深圳泰萊生物科技有限公司
代理機(jī)構(gòu) 深圳市優(yōu)賽朝聞專利代理事務(wù)所（普通合伙） 代理人 譚育華
地址 518000廣東省深圳市羅湖區(qū)南湖街道南湖路3009號(hào)國(guó)貿(mào)商住大廈19D
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本發(fā)明公開(kāi)了一種質(zhì)譜裝置的控制系統(tǒng)，包括進(jìn)樣系統(tǒng)、真空系統(tǒng)、采集分析系統(tǒng)和控制軟件；所述進(jìn)樣系統(tǒng)包括進(jìn)樣腔和主體腔，所述進(jìn)樣腔位置設(shè)有樣品靶；所述真空系統(tǒng)包括三個(gè)電磁閥、分子泵和機(jī)械泵，所述機(jī)械泵與分子泵之間設(shè)有前級(jí)閥，所述進(jìn)樣腔上設(shè)有放氣閥，所述主腔體內(nèi)設(shè)有預(yù)抽閥；所述采集分析系統(tǒng)包括離子源和檢測(cè)器，所述離子源將樣品靶上的樣品離子化，經(jīng)過(guò)離子源散射飛行到檢測(cè)器檢測(cè)；所述控制軟件包括質(zhì)譜儀內(nèi)的控制板、電腦及顯示器。本發(fā)明真空系統(tǒng)可以使得真空區(qū)域內(nèi)的壓強(qiáng)達(dá)到3×10Pa以下，而樣品和基質(zhì)在發(fā)出的高脈沖激光照射下，有效離子化，離子飛行時(shí)間能夠精確測(cè)量，檢測(cè)限達(dá)1fmol/ul，質(zhì)量?jī)?nèi)標(biāo)法精度150ppm，外標(biāo)法精度200ppm。