用于壓印納米孔薄膜的裝置和方法
基本信息
| 申請?zhí)?/td> | 2020111917626 | 申請日 | - |
| 公開（公告）號 | CN112248314A | 公開（公告）日 | 2021-01-22 |
| 申請公布號 | CN112248314A | 申請公布日 | 2021-01-22 |
| 分類號 | B29C35/02(2006.01)I; | 分類 | 塑料的加工；一般處于塑性狀態(tài)物質(zhì)的加工; |
| 發(fā)明人 | 周向前;伊沃·朗格諾 | 申請（專利權(quán)）人 | 濾微科技（上海）有限公司 |
| 代理機(jī)構(gòu) | 中國貿(mào)促會專利商標(biāo)事務(wù)所有限公司 | 代理人 | 張豐豪 |
| 地址 | 201210上海市浦東新區(qū)中國(上海)自由貿(mào)易試驗(yàn)區(qū)臨港新片區(qū)環(huán)湖西二路888號C樓 | ||
| 法律狀態(tài) | - | ||
摘要
| 摘要 | 本公開涉及一種用于壓印納米孔薄膜的裝置和方法。所述裝置包括第一壓印部件和第二壓印部件，第一壓印部件和第二壓印部件中的至少一者上設(shè)置有以預(yù)定陣列布置的、呈突起狀的多個(gè)第一壓印元件，當(dāng)?shù)谝粔河〔考偷诙河〔考舜藬D壓接觸時(shí)，多個(gè)第一壓印元件能夠在設(shè)置于第一壓印部件和第二壓印部件之間的薄膜上壓印出以預(yù)定陣列布置的、孔徑大小受控的納米孔，其中，多個(gè)第一壓印元件具有相同的尺寸和構(gòu)造。該裝置能夠壓印出具有以預(yù)定陣列布置的、貫穿所述膜體的、孔徑基本相同的多個(gè)納米孔的薄膜，該薄膜具有期望的通透度和低流體阻力，從而具有廣泛的應(yīng)用。?? |
