一種12英寸硅拋光片加工的工藝方法
基本信息
| 申請(qǐng)?zhí)?/td> | CN201911280084.8 | 申請(qǐng)日 | - |
| 公開（公告）號(hào) | CN112967922A | 公開（公告）日 | 2021-06-15 |
| 申請(qǐng)公布號(hào) | CN112967922A | 申請(qǐng)公布日 | 2021-06-15 |
| 分類號(hào) | H01L21/02 | 分類 | 基本電氣元件; |
| 發(fā)明人 | 陳海濱;閆志瑞;庫(kù)黎明;朱秦發(fā);蘇冰 | 申請(qǐng)（專利權(quán)）人 | 有研半導(dǎo)體硅材料股份公司 |
| 代理機(jī)構(gòu) | 北京北新智誠(chéng)知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 | 代理人 | 劉秀青 |
| 地址 | 101300 北京市順義區(qū)林河工業(yè)開發(fā)區(qū)雙河路南側(cè) | ||
| 法律狀態(tài) | - | ||
摘要
| 摘要 | 本發(fā)明公開了一種12英寸硅拋光片加工的工藝方法。該工藝方法包括以下步驟：（1）將雙面拋光好的12英寸硅片進(jìn)行NOTCH拋光并進(jìn)行邊緣拋光，然后放入片盒里，片盒放入盛有純水的常溫水槽里；（2）將裝有硅片的片盒放入1號(hào)液清洗，然后放入2號(hào)液清洗；1號(hào)液的成分組成為：氨水∶雙氧水∶純水＝1∶1∶5～1∶5∶10（體積比），2號(hào)液的成分組成為：鹽酸∶雙氧水∶純水＝1∶1∶5～1∶5∶10（體積比）；（3）將清洗完的裝有硅片的片盒放入溫水的水槽里，然后緩慢往上提拉達(dá)到干燥的目的。采用本發(fā)明的工藝方法可以制造表面顆粒和金屬含量低的12英寸硅片，有利于該12英寸硅片精拋后表面顆粒和金屬的降低。 |
