一種具有均勻溫度場的二維材料氣相沉積裝置

基本信息

申請?zhí)?/td> CN202220215681.3 申請日 -
公開（公告）號 CN216864302U 公開（公告）日 2022-07-01
申請公布號 CN216864302U 申請公布日 2022-07-01
分類號 C23C14/26（2006.01）I;C23C14/54（2006.01）I;C23C14/06（2006.01）I;C23C16/52（2006.01）I;C23C16/44（2006.01）I;C23C16/30（2006.01）I 分類 對金屬材料的鍍覆；用金屬材料對材料的鍍覆；表面化學(xué)處理；金屬材料的擴散處理；真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學(xué)氣相沉積法的一般鍍覆；金屬材料腐蝕或積垢的一般抑制〔2〕;
發(fā)明人 段曦東;李佳;宋蓉 申請（專利權(quán)）人 湖南大學(xué)
代理機構(gòu) 長沙市融智專利事務(wù)所（普通合伙） 代理人 -
地址 410082湖南省長沙市岳麓區(qū)麓山南路2號
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本實用新型屬于氣相沉積設(shè)備領(lǐng)域，具體涉及一種具有均勻溫度場的二維材料氣相沉積裝置，包括反應(yīng)管、以及包裹反應(yīng)管并對反應(yīng)管腔室進行控溫的爐膛；爐膛控溫的相應(yīng)反應(yīng)管腔室為溫控區(qū)，所述的溫控區(qū)分為氣流上游的揮發(fā)區(qū)以及位于氣流下游的沉積區(qū)，其中，對沉積區(qū)控溫的對應(yīng)爐膛內(nèi)設(shè)置有螺距漸變的螺旋加熱絲以及多個溫度探頭。本實用新型中，通過所述結(jié)構(gòu)的加熱絲B以及溫度探頭聯(lián)合創(chuàng)新，能夠利于改善溫度的均勻性，改善二維材料的沉積效果。