一種基于真空濺射腔室的貴金屬回收工藝

基本信息

申請?zhí)?/td> CN202011514847.3 申請日 -
公開（公告）號 CN112680749B 公開（公告）日 2021-09-28
申請公布號 CN112680749B 申請公布日 2021-09-28
分類號 C25C1/20;C23C14/35;C23C14/56 分類 電解或電泳工藝；其所用設(shè)備〔4〕;
發(fā)明人 陳敏;周鑫;郭麗萍 申請（專利權(quán)）人 江蘇時代華宜電子科技有限公司
代理機構(gòu) 無錫市匯誠永信專利代理事務(wù)所（普通合伙） 代理人 朱曉林
地址 214000 江蘇省無錫市環(huán)科園岳東路
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本發(fā)明屬于鉬片技術(shù)領(lǐng)域，具體涉及一種基于真空濺射腔室的貴金屬回收工藝，包括步驟1，將防著板全部浸入硝酸溶液中；步驟2，將防著板浸入電解溶液中；步驟3，將防著板浸入氫氟酸溶液中；步驟4，將防著板放入噴砂機中噴砂處理,完成防著板處理；步驟5，將步驟1和2中的溶液用過濾紗布過濾出沉淀或固體狀釕；步驟6，將濾出的沉淀或固體釕再次浸入硝酸溶液中；步驟7，將步驟6中的溶液再次使用過濾紗布過濾,然后烘干即可得到金屬釕。本發(fā)明不僅使得鍍膜腔室處于干凈清潔的狀態(tài),杜絕腔室被污染鍍層被污染的可能性,同時可回收貴金屬釕,提高效益減少浪費,減少對環(huán)境的污染。